Reiniger Technologien

HYDRON Technologie

Wasserbasierende, einphasige Reinigungstechnologie

HYDRON® ist eine von ZESTRON entwickelte,  innovative Reinigungstechnologie und steht für wasserbasierende, einphasige Reinigungsmedien. HYDRON®  Produkte werden für unterschiedliche  Reinigungsanwendungen empfohlen, wie z.B. für die Flussmittelentfernung von Baugruppen,  Leistungselektronik , Packages und Wafern oder für die Schablonenreinigung. Die HYDRON® Technologie ermöglicht dabei die vollständige Entfernung jeglicher Verunreinigung von den diversen Oberflächen.

Vorteile der HYDRON® Reiniger

Einphasige Formulierung

  • Stabile, einphasige Emulsion, keine Phasentrennung
  • Keine Agitation oder Durchmischung nötig um den Reiniger zu aktivieren
  • Sehr gute Reinigungsleistung
  • Bindet Verunreinigungen nur temporär, daher einfach zu filtrieren
  • Lange Badstandzeiten und niedrige Kosten

 

 

Einfache Prozessierbarkeit: 

  • Sehr gute Reinigungs- und Spülleistung in Reinigungsanlagen mit begrenzter Durchmischung
  • Stabile Konzentrationen zwischen Reinigungstank und Reinigungskammer
  • Einfache Badprobenentnahme, da der Reiniger vorab nicht durchmischt werden muss
  • Simples Nachdosieren von Fertigmischung möglich

Sehr gute Spülbarkeit:

  • Vollständige Entfernung von Rückständen durch sehr gute Spülbarkeit
  • Rückstandsfreie, homogen gespülte Substrate beim Einsatz von HYDRON® Reinigern in Tauchprozessen zur Flussmittelentfernung von Baugruppen und Leistungselektronik
  • Vollständig schlierenfreie Schablonen beim Einsatz von HYDRON® Reinigern zur Reinigung und Spülung in Schablonenreinigungsprozessen