Reinigungsmechaniken

HFE Co-Solvent Prozess

Wasserfreier Reinigungsprozess mit kurzen Trocknungszeiten 

Moderne HFE-Co-Solvent-Reinigungsprozesse stellen überall dort eine interessante Option dar, wo kurze Prozess- bzw. Trocknungszeiten erforderlich sind oder wasserfreie Reinigungsprozesse erwünscht sind, wie z.B. häufig im Militär- oder Luftfahrtbereich. HFEs (Hydrofluorether) wurden als Ersatz für FCKW, CKW oder ähnlichen Lösemitteln entwickelt und sind nicht brennbare Flüssigkeiten, die elektrisch nicht leiten und schnell und rückstandfrei trocknen. 

Zusammen mit einem Co-solvent wird das HFE in einem Reinigungsbad mit Druckumflutung und/ oder Ultraschall eingesetzt, um hartnäckige Verschmutzungen zu lösen. Die Spülung erfolgt in einem weiteren Bad mit HFE und anschließend per Dampfspülung. Abschließend wird die Leiterplatte per Intensivkühlung getrocknet. 

Zu bedenken ist, dass dieser Prozess in einer Anlagen mit effizienter Kältetechnik durchgeführt werden muss, die das Verdampfen des HFEs verhindert. Der maximale Verbrauch darf nach BImSchG 30g/h nicht übersteigen.

Bei Fragen zu den verschiedenen Prozesstypen oder wenn Sie Tests mit unterschiedlichen Anlagen in unserem Technischen Zentrum durchführen möchten, kontaktieren Sie bitte unsere Prozessingenieure.


HFE Co-Solvent Prozess zur Reinigung von elektronischen Baugruppen

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