Elektronikreinigung

ATRON AC 207

Wasserbasierendes Medium zur Flussmittelentfernung in Sprühprozessen

Wasserbasierendes Medium zur Flussmittelentfernung speziell für den Einsatz mit niedrigen Konzentrationen entwickelt. Bietet eine höhere Reinigungsleistung und längere Badstandzeiten als herkömmliche Tensidreiniger und ist mit empfindlichen Metallen besonders verträglich. Kann in Inline- oder Batch-Spritzprozessen mit mittlerem bis hohem Druck eingesetzt werden.

Vorteile gegenüber anderen Reinigungsmedien:

  • Milde Formulierung, niedrige Einsatzkonzentration, hohe Materialverträglichkeit
  • auch bei niedriger Konzentration und Temperatur sehr gute Reinigungsleistung
  • Schnellere Entfernung neuer bleifreier und bleihaltiger Flussmittel
  • Verringert die Void-Rate beim Underfill durch Entfernung der Tacky Fluxes von Flip Chips
  • Erhöhte Drahtbondqualität bei Leistungsmodulen durch hervorragende Flussmittelentfernung
  • 3 bis 10 mal längere Badstandzeit als herkömmliche Tensidreiniger
  • Hinterlässt blanke, glänzende Lötstellen
  • Extrem niedriger VOC-Gehalt

Anwendungsbereich:

  • für empfindliche Metalloberflächen

Verunreinigung:

  • Flussmittel

Prozessart:

Technologie: