VIGON® N 680 - de pH neutro para aplicaciones
VIGON® PE 190A - Aplicaciones PCB y Semiconductores
HYDRON® SE 230A - Limpieza de Semiconductores
ZESTRON® EYE CM - Sistema de Gestión de Concentración automática
Primeros en mercadear soluciones de limpieza de pH neutro

Proceso de vacío de cámara única

Una limpieza sin agua con tiempos de proceso cortos

La aspiración de una cámara funciona únicamente con disolventes. El agente de limpieza se pulveriza sobre las partes similares al proceso de pulverización en aire, mientras que el secado tiene lugar en un entorno de vacío, reduciendo sustancialmente el tiempo de proceso.

La mayoría de los disolventes tienen una larga vida en el baño y debido a sus propiedades de secado eficientes, se pueden conseguir tiempos de proceso cortos. Se requiere una máquina de limpieza a prueba de explosión para procesos de vacío de una sola cámara.

Proceso de vacío de cámara única