VIGON® N 680 - de pH neutro para aplicaciones
VIGON® PE 190A - Aplicaciones PCB y Semiconductores
HYDRON® SE 230A - Limpieza de Semiconductores
ZESTRON® EYE CM - Sistema de Gestión de Concentración automática
Primeros en mercadear soluciones de limpieza de pH neutro

HYDRON® Technology

HYDRON® es una tecnología de limpieza innovadora desarrollada por ZESTRON. Los agentes de limpieza son de fase simple, a base de agua y cubre una amplia gama de aplicaciones de limpieza, como la deflexión de los ensamblajes de placa de circuitos impresos, electrónicos de potencia, paquetes avanzados y obleas electrónicas. La tecnología HYDRON® permite remover completamente contaminantes de una variedad de electrónicos y superficies semiconductoras de sustrato.

Ventajas claves de los Productos HYDRON®

Formulación de fase simple o monofásica

Los agentes de limpieza HYDRON®  es el resultado de una formulación de fase simple con las siguientes características:

  • Micro emulsión de fase simple estable; agitación no es requerida para activar o mezclar el agente limpiador
  • Se enlaza con los contaminantes temporalmente, dando como resultado una filtración fácil y que asegura más prolongada duración del baño y bajo costo de la operación
  • Excelente actuación limpiadora de los los ensamblajes de placa de circuitos impresos, electrónicos de potencia, paquetes avanzados y obleas electrónicas

Procesamiento fácil

Las ventajas de la formulación HYDRON® en el proceso de manejo son:

  • Excelente limpieza y enjuague en máquinas de limpieza con mezclado limitado 
  • Formula de fase simple que resulta en una concentración consistente entre el tanque de baño para el lavado y la cámara de limpieza

Excelente Enjuagado.

La fórmula de fase simple HYDRON® provee un enjuagado excelente, asegurando quitar por completo los residuos, y de esta manera provee óptimas características en la superficie para procesos subsecuentes, por ejemplo:

  • El uso de productos HYDRON en procesos de tanques de inmersión para defluxión de los ensamblajes de placa de circuitos impresos o de electrónicos de potencia asegurara sustratos libres de residuos


Control de Proceso

Los agentes de limpieza de HYDRON® pueden ser revisados por los productos de control que ZESTRON tiene:

Los fundamentos de los agentes de limpieza de HYDRON® 

Una manera convencional para remover la tensión del líquido en el que se es diluido  

  • El agente activo quita los contaminantes de la superficie de sustrato y se enlaza permanentemente a los contaminantes
  • Por lo tanto, la regeneración por filtración no es posible y el limpiador se gasta muy rápido y requiere constantes cambios de baño
  • El agente activo se mantiene en la superficie de sustrato causando problemas y por consecuencia requiriendo un proceso como la unión de cables o envoltura de cables


La tecnología HYDRON®

  • Los ingredientes activos de HYDRON® quitan los contaminantes de la superficie de sustrato pero no se enlazan permanentemente a los contaminantes
  • Ya no presentes en la superficie, sueltan los contaminantes para que los agentes de limpieza puedan regenerase a base de filtración asegurando una prolongada duración del baño
  • Los ingredientes de HYDRON® dejan el líquido para remover la tensión libre de residuo