洗浄プロセスにおける装置技術

スプレープロセス

単一チャンバーバッチスプレー洗浄機

単一チャンバースプレーシステムは、食洗機の原理に基づき洗浄され、全プロセスを同一のチャンバー工程内で実施します。洗浄剤はノズルまたは回転式スプレーアームを介しアセンブリ基板上にスプレーされます。インラインプロセスのようなスプレーの噴霧圧力によるものではなく、基板への洗浄液量に応じて洗浄効果を得ることができます。

本洗浄機は、小規模または中規模生産のアセンブリ基板に適しており、生産現場に小さなスペースにてご利用可能です。

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