세척 배스 모니터링
공정 컨트롤

세척 배스 모니터링

영구적인 오염물이 전자부품의 세척을 통해 세척/수세 배스에 들어간다. 오염물에 추가해서, 부정적인 영향을 미칠수 있는 수세 배스에 세척액이 들어가는 것과 같이, 공정간 영향이 있다.

규칙적인 세척 탱크 모니터링은 전자 부품 및 파워 전자의 세척 공정에서 꾸준하게 필요하다. 수작업과 자동방법들을 이용할 수 있다.

세가지 중요한 공정 조건이 세척과 수세 배스의 품질에 대한 정보를 제공할 수 있다.

  • PH 값
  • 전도도
  • 세척액 농도

농도는 중요하다. 수용성 세척액의 최적화된 성능을 성취하기 위하여, 추천된 적용 농도는 추천된 범위 안에서 유지되어야 한다. 이런 목적을 위하여, 두가지 다른 측정 방법을 이용할 수 있다:

  1. 수작업: 산성 적정에 기초한 빠른 화학액 실험(Easy Bath Control Kit) 또는 상 분리 방법(ZESTRON Bath Analyzer test kits)
  2. 자동: 온라인과 실시간 측정 시스템(ZESTRON EYE), 자동 투여 방법을 갖거나 갖지 않거나(ZESTRON EYE CM)

배스 모니터링의 장점: 

  • 세척 배스의 꾸준한 품질 수준 때문에 꾸준한 세척 공정
  • 조기 배스 변경을 하지 않기 때문에 원가 절감
  • 늦어진 배스 변경 때문에 저품질 세척 결과를 예방
  • 공정 추적을 갖는 세척액 농도의 문서화(ISO 9001-2015)


ZESTRON EYE
ZESTRON EYE
ZESTRON Bath Analyzer
pH-Meter