Отмывочные жидкости для электроники

ATRON AC 205

Щелочная жидкость на водной основе для удаления остатков флюсов

Специально разработанна для процессов отмывки требующих более короткого времени взаимодействия промывочной жидкости с печатнымы узлами. Хорошо зарекомендовала себя в системах для отмывки конвейерного типа при распылении под высоким давлением. Имеет более продолжительный срок службы по сравнению с традиционными ПАВ.

Преимущества в сравнении с другими средствами очистки:

  • Не содержит в своем составе этаноламинов и других вредных веществ
  • Быстро удаляет остатки флюсов различных свинцовых и бессвинцовых паяльных паст
  • Имеет более продолжительный срок службы в сравнении с традиционными очищающими средствами на основе поверхностно-активных веществ (ПАВ)
  • Благодаря своему специальному химическому составу придает блеск паяным соединениям
  • Снижает риск образования пустот и раковин при заливке компаундом и герметизации
  • Cпособствует улучшению качества изображения модулей камер, посредством удаления остатков флюс-гелей , загрязнений и пыли с поверхности светочувствительной матрицы CMOS
  • Оптимально удаляет остатки флюсов после посадки кристалла на основание при производстве мощных светодиодов
  • Улучшает качество микросварных соединений , светотехнические характеристики и продлевает срок службы светодиодов
  • Обладает очень низким содержанием летучих органических соединений

Связанные новости

Дополнительная информация:

  • Для процесов требующих короткого времени взаимодействия отмывочной жидкости и печатного узла

Загрязнения:

  • Остатки флюсов

Вид процесса:

Технология:

Продукты для оптимизации процесса: