去涂覆层

去除涂覆托盘、框架、模具及装置上涂覆层的清洗剂

可通过水基工艺实现的最高操作安全性下的强大清洗表现

敷型涂覆在电子组装上可防止有害的环境影响和潮湿。对于涂覆应用,PCB组件被放置在称为涂覆框架或涂覆模具的特殊容器中,并通过涂覆工艺或选择性涂覆。涂覆框架通常由铝或玻璃纤维强化塑料制成。随着每一次新的涂覆循环,额外的涂覆材料沉积在框架和工具上,这些框架和工具与涂覆材料接触,然后固化。为了确保安全和可持续的涂覆工艺,必须在涂覆框架使用一定周期后去除沉积其上的污染物。

在此之前,去除涂覆材料的唯一湿法工艺,是使用具有潜在健康和环境危害的腐蚀性剥离化学品进行清洗。

最高操作安全性和良好的材料兼容性

为了给用户提供更安全、更快速的去涂覆层工艺,ZESTRON创造了ATRON®DC,一种水基型清洗剂。ATRON®DC的研发优先考虑了使用者的操作安全性、降低工作量以及环境兼容性。同时,兼顾了良好的材料兼容性,可无需顾虑地将整个框架完全浸泡在清洗液中。

即使是非常厚的涂层,也可以在1.5小时内彻底清除,且无需人工返工。如按照我们的建议定期清洗,可在15分钟内完全去除涂覆层。

水基型去涂覆层清洗剂应用广泛

ATRON®DC能有效去除丙烯酸,聚氨酯,有时甚至硅树脂保护涂层。该清洗剂适用于维护环节中所有常见清洗系统,包括超声波、浸没式和喷淋清洗工艺。ATRON®DC通常在室温和60℃之间使用。.

我们的应用技术团队将很乐意为您的涂覆框架、支架和工具找到最佳的去涂覆层清洗工艺!

使用常规剥离化学品后进行人工返工
严重污染的涂覆框架
在喷淋设备去涂覆层
严重污染的涂覆框架在用ATRON DC清洗后90分钟且无人工返工的前后对比

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