半水基清洗工艺

用半水基工艺来清洗电子产品，通常使用超声波或者浸没喷流的方式。这些工艺中一般用溶剂来清洗，后续采用多个步骤的DI水漂洗。

半水基工艺的工艺窗口非常宽广，可有效去除各种无铅、有铅免洗锡膏的树脂、松香残留物。

一般来说：此类工艺不再使用普通的原料级醇类，取而代之是现代无卤配方的有机改性醇类。这种溶剂污染负载能力大，使用寿命长；由于无表面活性剂成分，易于用DI水漂洗。

ZESTRON的清洗液产品系列里面，有很多是专门为水基清洗工艺开发的。

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