HYDRON Technologie

Wasserbasierende, einphasige Reinigungstechnologie

HYDRON^® ist eine von ZESTRON entwickelte, innovative Reinigungstechnologie und steht für wasserbasierende, einphasige Reinigungsmedien. HYDRON^® Produkte werden für unterschiedliche Reinigungsanwendungen empfohlen, wie z.B. für die Flussmittelentfernung von Baugruppen, Leistungselektronik, Packages und Wafern oder für die Schablonenreinigung. Die HYDRON^® Technologie ermöglicht dabei die vollständige Entfernung jeglicher Verunreinigung von den diversen Oberflächen.

Vorteile der HYDRON® Reiniger

Einphasige Formulierung

Stabile, einphasige Emulsion, keine Phasentrennung
Keine Agitation oder Durchmischung nötig um den Reiniger zu aktivieren
Sehr gute Reinigungsleistung
Bindet Verunreinigungen nur temporär, daher einfach zu filtrieren
Lange Badstandzeiten und niedrige Kosten

Einfache Prozessierbarkeit:

Sehr gute Reinigungs- und Spülleistung in Reinigungsanlagen mit begrenzter Durchmischung
Stabile Konzentrationen zwischen Reinigungstank und Reinigungskammer
Einfache Badprobenentnahme, da der Reiniger vorab nicht durchmischt werden muss
Simples Nachdosieren von Fertigmischung möglich

Sehr gute Spülbarkeit:

Vollständige Entfernung von Rückständen durch sehr gute Spülbarkeit
Rückstandsfreie, homogen gespülte Substrate beim Einsatz von HYDRON^® Reinigern in Tauchprozessen zur Flussmittelentfernung von Baugruppen und Leistungselektronik
Vollständig schlierenfreie Schablonen beim Einsatz von HYDRON^® Reinigern zur Reinigung und Spülung in Schablonenreinigungsprozessen

Kontakt

Tel.: +49 (841) 635-26

techsupport(at)zestron.com