HYDRON - einphasige Technologie
HYDRON Technologie
Wasserbasierende, einphasige Reinigungstechnologie
HYDRON® ist eine von ZESTRON entwickelte, innovative Reinigungstechnologie und steht für wasserbasierende, einphasige Reinigungsmedien. HYDRON® Produkte werden für unterschiedliche Reinigungsanwendungen empfohlen, wie z.B. für die Flussmittelentfernung von Baugruppen, Leistungselektronik, Packages und Wafern oder für die Schablonenreinigung. Die HYDRON® Technologie ermöglicht dabei die vollständige Entfernung jeglicher Verunreinigung von den diversen Oberflächen.
Vorteile der HYDRON® Reiniger
Einphasige Formulierung
- Stabile, einphasige Emulsion, keine Phasentrennung
- Keine Agitation oder Durchmischung nötig um den Reiniger zu aktivieren
- Sehr gute Reinigungsleistung
- Bindet Verunreinigungen nur temporär, daher einfach zu filtrieren
- Lange Badstandzeiten und niedrige Kosten
Einfache Prozessierbarkeit:
- Sehr gute Reinigungs- und Spülleistung in Reinigungsanlagen mit begrenzter Durchmischung
- Stabile Konzentrationen zwischen Reinigungstank und Reinigungskammer
- Einfache Badprobenentnahme, da der Reiniger vorab nicht durchmischt werden muss
- Simples Nachdosieren von Fertigmischung möglich
Sehr gute Spülbarkeit:
- Vollständige Entfernung von Rückständen durch sehr gute Spülbarkeit
- Rückstandsfreie, homogen gespülte Substrate beim Einsatz von HYDRON® Reinigern in Tauchprozessen zur Flussmittelentfernung von Baugruppen und Leistungselektronik
- Vollständig schlierenfreie Schablonen beim Einsatz von HYDRON® Reinigern zur Reinigung und Spülung in Schablonenreinigungsprozessen
Kontakt
Tel.: +49 (841) 635-26