Elektronikreinigung

ZESTRON CO 150

Medium für die Präzisionsreinigung in wasserfreien Co-Solvent Prozessen

Lösemittelbasierender Reiniger, speziell für den Einsatz in US-Tauchanlagen entwickelt. Kann unverdünnt als Vorreiniger oder als Co-Solvent-Gemisch in Verbindung mit einem HFE-Prozess verwendet werden. Eignet sich besonders gut für die Entfernung von Flussmittelrückständen aus bleihaltigen und bleifreien NoClean Pasten von Baugruppen, Leistungsmodulen und Leadframe basierten diskreten Bauelementen. 

Vorteile gegenüber anderen Reinigungsmedien:

  • Sehr gute Ergebnisse mit bleihaltigen und bleifreien Lotpasten
  • Erhöhte Drahtbond- /Moldqualität bei Leistungsmodulen und Leadframe-basierten, diskreten Bauelementen
  • Vermindert die Gefahr des Überschäumens im HFE Co-Solvent Prozess
  • Bietet ein breiteres Konzentrationsfenster zur Prozesskontrolle
  • Stabilisiert Kältedeckel und minimiert hilft den HFE-Verbrauch
  • Ermöglicht einen vollkommen wasserfreien Reinigungsprozess mit einer schnellen, rückstandsfreien Trocknung
  • Es können niedrige ionische Kontaminationswerte erreicht werden

Alternative Produkte

Anwendungsbereich:

Prozessart:

Technologie:

Verunreinigung:

  • Flussmittel