Elektronikreinigung

ZESTRON Demister

Rückgewinnung von Reinigungsmedium aus dem Abluftstrom der Reinigungsanlage

Bei Hochvolumen-Fertigungsprozessen werden häufig vollautomatische Durchlauf-Reinigungsanlagen eingesetzt. Dabei kommen wasserbasierenden Reinigungsmedien für die Entfernung von Flussmitteln auf elektronischen Baugruppen zum Einsatz.  

Die angewandte Reinigungsagitation ist die Spritzmechanik, die mit einem mittleren bis hohen Spritzdruck von 2-6 bar appliziert wird.  

Trifft das Reinigungsmediums auf die bestückte Leiterplatte, dann wird ein Teil des Reinigers zerstäubt und entströmt über das Abluftsystem aus der Reinigungsmaschine. Diese Abluft enthält Wasserdampf sowie wertvolles Reinigungsmedium, welches noch nutzbar ist. 

Der ZESTRON® Demister ist dazu konzipiert worden, die Aerosoltröpfchen passiv aus der Abluft zurückzugewinnen und dem Reinigungstank der Anlage wieder zu zuführen.

 

Vorteile der Nutzung des ZESTRON® Demister:

  • Anteiliger Rückgewinn von Reinigerkonzentrat - Reduzierung der Reinigungskosten
  • Passives System - keine Betriebskosten
  • Leichtbauweise für eine einfache Installation in der bestehenden Verrohrung des Abluftsystems
  • Einfache Wartung

Integrierter ZESTRON Demister:

Prozessart:

    Technologie:

    • Interial Vane Technology