ZESTRON VD

Lösemittelbasierendes Medium zur wasserfreien Flussmittelentfernung von elektronischen Baugruppen, Keramiksubstraten und Leadframe-basierenden, diskreten Bauelementen in geschlossenen Kreislaufprozessen auch mit Dampfspülung unter Vakuum. 

Vorteile gegenüber anderen Reinigungsmedien:

• Breiter Anwendungsbereich durch polare und unpolare Bestandteile
• Einheitlich destillierbar, in Einkammer-Lösemittelprozessen mit Dampfspülung unter Vakuum einsetzbar
• Tensidfrei – garantiert rückstandsfreie Trockung
• besonders geeignet für wasserfreie Anwendungen ohne Wasserspülung
• Erhöhte Bondqualität/Mouldinghaftung bei Leadframe-basierten, diskreten Bauelementen durch vollständige Entfernung der Rückstände von Bleibasisloten
• Auch zur Schablonenreinigung in Lösemittelanlagen und Druckern einsetzbar