ZESTRON VD
Medium für die Flussmittelentfernung für wasserfreie Prozesse
Lösemittelbasierendes Medium zur wasserfreien Flussmittelentfernung von elektronischen Baugruppen, Keramiksubstraten und Leadframe-basierenden, diskreten Bauelementen in geschlossenen Kreislaufprozessen auch mit Dampfspülung unter Vakuum.
Vorteile gegenüber anderen Reinigungsmedien:
- Breiter Anwendungsbereich durch polare und unpolare Bestandteile
- Einheitlich destillierbar, in Einkammer-Lösemittelprozessen mit Dampfspülung unter Vakuum einsetzbar
- Tensidfrei – garantiert rückstandsfreie Trockung
- besonders geeignet für wasserfreie Anwendungen ohne Wasserspülung
- Erhöhte Bondqualität/Mouldinghaftung bei Leadframe-basierten, diskreten Bauelementen durch vollständige Entfernung der Rückstände von Bleibasisloten
- Auch zur Schablonenreinigung in Lösemittelanlagen und Druckern einsetzbar