ZESTRON® EYE CM. Sistema de monitoreo para el control y mezcla de la concentración del baño en tiempo real.
Sistema automatizado de vanguardia capaz de monitorear la concentración real solución de lavado en tiempo real en presencia de carga de flux.
Método manual fácil de usar que proporciona mediciones de concentraciones confiables y precisas tanto en solucion de lavados de limpieza cargados de flux como frescos.
Método de prueba no destructivo que indica la distribución local de los activadores de flux en ensambles electrónicos mediante una reacción de color.
Método de prueba no destructivo que identifica visualmente la distribución local de residuos basados en resinas en ensambles electrónicos mediante una reacción de color.
Método rápido y fácil de usar para medir la concentración del agente de limpieza en el baño de lavado
Agente de limpieza base agua para remover residuos de flux
Agente de limpieza base agua para aplicaciones de remoción de flux en procesos de aspersión o lavado por chorro a presión por aire
Agente de limpieza base agua para la eliminación de residuos de flux
Agente de limpieza base acuosa para remover flux adherido durante el proceso de horneado
Indica activadores de flux
Agente de limpieza de pH neutro para limpieza de flux y para semiconductores electronicos
Agente de limpieza alcalino base agua, para remover - retirar residuos de flux para semiconductores electrónicos
Agente de limpieza base agua para procesos de remoción de residuos de flux
Identificar la distribución local de residuos de resina
Agente limpiador base agua de medio libre de surfactantes, para la limpieza de piezas de precisión de metales.
Agente limpiador a base de agua para la limpieza de piezas de precisión en la industria aeroespacial
Limpiador de pH neutro a base de agua para limpieza de precisión y piezas industriales
Agente de limpieza con base agua para la limpieza de flux
Agente de limpieza acuoso de alta presión para procesos de remoción de residuos de flux
Agente de limpieza base agua paraprocesos de remoción de flux en procesos de aspersión de baja y/o mediana presión
Agente de limpieza de precisión para remoción manual de fluxes
Agente de limpieza de flux de pH neutro base acuosa para limpieza en procesos en línea o por aspersión de aire
Agente de limpieza de flux a base de agua, de pH neutro para aplicaciones de pulverización o aspersión por aire en PCB’s y componentes , con...
Agente de limpieza de flux de pH neutral para módulos de potencia, LED, estructuras centrales y dispositivos discretos
Removedor – Limpiador de Flux Alcalino para limpieza de PCB’s y Componentes Electrónicos de Potencia
Agente de limpieza base agua para hornos de reflujo y soldadoras de ola.
Agente de limpieza base acuosa para hornos de reflujo y máquinas soldadoras de ola
Limpiador de Stenciles & Tarjetas, base acuosa para remoción de pastas de soldadura y adhesivos SMT
Limpiador base acuosa para lavado de PCB’s, esténciles de impresión. Desarrollado para la remoción de pastas de soldadura, adhesivos SMT y Fluxes.
Limpiador de esténciles base agua para la remoción de pastas de soldadura y adhesivos SMT
Agente base acuosa para limpieza en la parte inferior de esténciles de impresión de soldadura en pasta en máquinas impresoras de SMT
Agente de limpieza base agua para limpieza de flux
Removedor fuerte para limpieza de adhesivos en aplicaciones ultrasonicas
Medición de concentración automatizada en tiempo real
Limpiador base solvente para remoción de flux en PCB & Componentes Electrónicos.
Solvente de limpieza para remover adhesivos SMT
Limpiador base de solvente para esténciles de impresión de soldadura en pasta y plantillas de SMT
Agente de limpieza para la remoción de pastas de soldadura, adhesivos SMT y pastas de película gruesa en esténciles y plantillas
Limpiador base solvente para impresoras de esténciles SMT
Agente de limpieza de precisión para montajes electrónicos
