HYDRON® SE 230A

Agente de limpieza alcalino base agua, para remover - retirar residuos de flux para semiconductores electrónicos

HYDRON® SE 230A es un agente de limpieza a base de agua de una sola fase desarrollado específicamente para el uso en los procesos de lavado en tanques por inmersión. Elimina los residuos de flux de una amplia gama de semiconductores electrónicos, tales como leadframes, dispositivos discretos, módulos de potencia, componentes de iluminación como LEDs, flip chip CMOS, limpiando aun despues del proceso de fijación del dado de los componentes ensamblados. El agente de limpieza proporciona una excelente eliminación de óxidos e impurezas, especialmente en los materiales como son sustratos de cobre. Limpia adecuadamente residuos de los procesos posteriores, tales como unión por hilo y residuos generados por el moldeo de partes ensambladas.

Ventajas de HYDRON® SE 230A en comparación con otros productos de limpieza:

  • Posee una tensión superficial muy baja, ideal para la limpieza de espacios capilares, es decir, por debajo de los componentes de bajo stand-off
  • Tiene un alto nivel de compatibilidad dentro de su formulación siendo eficaz con los materiales sensibles tales como cobre, aluminio y níquel
  • Mantiene superficies de cobre activadas durante un período prolongado de tiempo sin riesgo de re oxidación
  • Fácilmente se enjuaga con agua DI, produciendo superficies libres de residuos
  • Poco olor
aplicaciones de limpieza de Semiconductores

HYDRON® SE 230A

Área de Aplicación Específica

Proceso

Contaminación

  • Residuos de flux