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ニュースリリース

 

情報機構様主催のオンラインセミナーにて、弊社のチーフアプリケーションエンジニア  加納裕也が講師として登壇いたします。

基板やパワーデバイスなど、電子部品の洗浄について、昨今求められている技術とその背景をわかりやすく解説します。セミナー詳細やお申込みに関しましては、下記をご覧ください。

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サイエンス&テクノロジー様主催のオンラインセミナーにて、弊社が講師として登壇します。
フラックス洗浄の基本から、洗浄液・方式の種類・特性、清浄度の分析、洗浄事例と課題、洗浄性改善技術などについて詳しく解説します。
セミナー詳細やお申込みに関しては、下記をご覧ください。

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弊社の日本市場での取り組みについて、2021年8月27日発刊の『化学工業日報』で取り上げられました。
昨今、安全面や環境面の意識向上から、有機溶剤の使用削減が加速しており、弊社の「環境に優しい水系でありながら、溶剤系同等の洗浄力」を持つ洗浄剤のニーズが市場で高まっています。弊社の特徴や今後の展望などに...

日本テクノセンター様主催のオンラインセミナーにて、チーフアプリケーションエンジニアの加納が講師として登壇します。

気候変動や有害な環境から保護し、信頼性を高めるため、プリント基板には保護コーティングが施されます。コーティングの接合面でのエッジロスやコーティングだまり内の気泡やピンホールは、基板の故障につながる可能性があるため、迅速に特定して除去する必要があります。

ゼストロンのCoating Layer...

弊社テクニカルセンターにインラインスプレー洗浄装置『Aquastorm 200』が導入されました。

『Aquastorm 200』はITW EAE(アメリカ)製で、3種類のスプレーノズルが搭載されており、高い洗浄性を保有しています。既に弊社ではインラインスプレー洗浄装置を2台導入し、洗浄テストを行...

安定した洗浄性を維持するために、洗浄槽内の洗浄液濃度を一定に保つ必要があります。しかし、液の持ち出しや希釈などにより、濃度は変化する可能性があります。そのため、定期的に濃度を確認することをおすすめします。

ZESTRON® Bath...

技術情報協会発刊の「プリント配線板材料の開発と実装技術」において、
第13章 基板積層のためのビア、導通経路形成技術と研磨技術
第5節 フラックス洗浄の動向と今後の課題 の部分をチーフアプリケーションエンジニアの加納が執筆しました。

本稿では、フラックス洗浄の基本的な概念から、新たな洗浄プロセスを構築し...

IPAに代わる最新の洗浄剤をお探しの場合は、下記ページをご覧ください。
www.zestron.com/jp/ipa-alternatives-jp

洗浄対象・用途に合わせて専用開発された洗浄剤をご紹介しております。...

ATRON® DCは、コーティングされたフレーム用の世界初の水系洗浄剤です。作業者への安全性を配慮しながら、洗浄性が高く、洗浄機やコーティングフレーム、治具に対して材料適合性にも優れています。ATRON®...

連絡先

電話: 0467-53-8658