HYDRON テクノロジー
HYDRON® テクノロジー
水系一相構造の洗浄技術
HYDRON®はゼストロンが開発した革新的な洗浄技術です。
HYDRON®洗浄剤は、水系かつ一相構造であり、プリント基板、パワーエレクトロニクス、高密度パッケージ、ウェハのフラックス洗浄や、メタルマスク洗浄などの幅広い洗浄対象に対応しています。 HYDRON®テクノロジーにより、様々な電子基板表面からコンタミを完全に除去することができます。
HYDRON製品の主な特徴
一相構造
- 安定した一相構造で、分離なし
- 混合または活性化させるための撹拌の必要なし
- 優れた洗浄性
- コンタミとの結合が一時的で、ろ過が容易
- 長寿命かつ運用コストが低い
運用が簡単:
- 攪拌力が限られた洗浄機でも優れた洗浄性とリンス性
- 洗浄液タンクと洗浄チャンバー間で安定した濃度を維持
- 洗浄剤を事前に攪拌する必要がないため、サンプルの取り出しが簡単
- 一相構造のため、洗浄液の投入が簡単
優れたリンス性:
- 残渣を完全に除去できる優れたリンス性
- プリント基板やパワーエレクトロニクスのフラックス洗浄の浸漬工程において、基板に残渣を残さず均一にリンス可能
- メタルマスク洗浄において、リンスと乾燥後表面に縞模様なし