洗浄プロセスにおける装置技術

HFEコソルベントプロセス

乾燥時間の短い水なし洗浄

短時間乾燥や無水洗浄が必要な場合、最新のコソルベント洗浄プロセスを推奨いたします。本プロセスは軍用および航空宇宙分野にて比較的使用されています。HFE(ハイドロフルオロエーテル)はCFCまたは類似した溶剤の代替品として開発され、不燃性・非導電性・速乾性・残渣を残さないといった特性があります。

HFEはコソルベントと共に、噴流や超音波撹拌の洗浄槽内にて使用され、しつこい残渣を除去します。リンス工程ではHFEにて行われ、次工程にて蒸気リンスを行います。そして最終的に集中冷却によりプリント基板を乾燥させます。

本プロセスはHFEの蒸発量を防ぐ効率的な冷却機能を備えた洗浄機にて行ってください。

その他の洗浄機・洗浄プロセス、または弊社での洗浄テストに関するお問い合わせは、プロセスエンジニアまでご連絡下さい


HFEコソルベント 洗浄ロセス
コソルベント 洗浄

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コソルベント 洗浄

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