基板洗浄の際に発生するコンタミは継続して洗浄槽およびリンス槽に混入します。また、これに加え洗浄剤の持ち出し、揮発、或いはリンス水への洗浄剤混入などが洗浄工程そのものに影響を与え、最終的な洗浄結果に悪影響を及ぼします。

このため、アセンブリ基板やパワーエレクトロニクスの洗浄工程において、定期的な洗浄槽管理は、安定した洗浄結果を得るのに必要不可欠です。この管理方法には、手動、或いは自動測定があります。

洗浄槽およびリンス槽の品質管理では、重要な工程パラメータが次の3つになります。

• pH値
• 電気伝導度
• 洗浄剤濃度

水系洗浄剤の性能を十分に発揮するには、推奨されるアプリケーション濃度が規定範囲内において一定に保たれなければならないため、濃度管理は重要です。

1. 手動測定:　アルカリ度滴定を基にした簡易テスト(例:Zestron Easy Bath Control Kit)または層分離方法(例: ZESTRON Bath Analyzerテストキット)
2. 自動測定: オンライン自動測定システム(ZESTRON EYE)、自動濃度測定ユニット(ZESTRON EYE CM)

液管理の利点

• 洗浄槽の安定した品質レベルがもたらす一貫した洗浄プロセス
• 不適切な液交換を減らすことによるコスト削減
• 液の交換遅延でもたらされる洗浄品質悪化の回避
• 工程管理追跡調査による洗浄濃度のデータ集積(例：ISO 9001 – 2008)