ZESTRON CO 150

ZESTRON^® CO 150  は超音波浸漬槽工程用途に開発された溶剤系洗浄剤です。 ZESTRON^® CO 150 は希釈せずに、HFE系薬剤との組み合わせで前洗浄、もしくはコ・ソルベント混合液としてお使いいただけます。 ZESTRON^® CO 150は特にアセンブリ基板やディスクリート素子から共晶・鉛フリー系無洗浄はんだペーストのフラックス残渣を除去するのに適しています。

他洗浄剤と比較しての利点:

• 共晶・鉛フリーはんだペーストに対し良好な洗浄結果です。
• パワーモジュール及びリードフレーム系ディスクリート素子のワイヤボンディング/モルディングの品質を向上させます。
• ZESTRON^® CO 150 は沸騰防止を最小化し安定した洗浄工程を保証します。
• 工程管理における濃度管理範囲が広く設定できます。
• クーリング工程を安定させ、HFE消費量を最小化するのを助けます。
• HFE処理工程との組み合わせで、 ZESTRON^® CO 150は完全な無水洗浄工程及び無残渣乾燥工程を実現します。
• 無水工程にも関わらずイオンコンタミ値を低く抑えることが可能です。