전자부품 세척제

ATRON AC 205

Water-based, alkaline defluxing agent

ATRON® AC 205는 특히나 플럭스 잔사 제거용으로써 고압의 인라인 세척장비에서 짧은시간내에 세척이 가능합니다. 

기존의  계면활성제와 비교하였을때, ATRON® AC205는 더 짧은 세척시간이 소요되는 반면, 더 우수한 bath 적재능력을 가집니다. 

 

장점:

  • Ethanolamine 및 유해성분이 포함되어 있지 않습니다.
  • Lead-free, 다양한 플럭스 잔사를 빠르게 제거 할 수 있습니다.
  • 기존 계면 활성제에 비해 수명주기가 깁니다.
  • 우수한 구성성분은 솔더 조인트및 패드에 세척 후, 광택 효과를 나타냅니다.
  • Flip Chip 및 CMOS에 잔존하는 플럭스 잔사를 제거 함으로써 underfill 공정에서 void가 전혀 발생하지 않습니다.
  • Die attach 후의 플럭스 제거는 와이어 본딩의 퀄리티를 향상 시킴과 동시에 Power LEDs의 수명 증가 및 light conversion을 향상 시킵니다.
  • VOC 수치가 매우 낮습니다. 

특화된 적용분야:

  • 낮은 Standoff를 가지는 기판 짧은 시간내의

오염원:

  • 플럭스 잔사

공정:

테크놀로지:

ZESTRON 세척공정 최적화를 위한 제품: