전자 부품 세척

ATRON AC 207

반응에 민감한 금속을 위한 수계 기반 알칼리성 디플럭스 세척제

ATRON® AC 207세척제는 저농도에서도 세척이 가능하도록 개발된 제품입니다. 이 제품은 기존 계면 활성제의 세척 성능과 Bath 수명을 향상 시키고 반응에 민감한 금속에도 문제 없도록 개발 되었습니다. ATRON® AC 207은 고압력의 Inline 세척 시스템과 중간압력의Batch 타입 스프레이 세척 시스템에서도 사용될 수 있습니다.

 

다른 세정액과 비교시 장점:

  • 완만한 화학 구조 특성을 가지고 있고 저농도로 세척이 가능하기 때문에 ATRON® AC 207은 알루미늄(Al), 황동(Cu), 니켈(Ni)과 같은 민감한 금속과의 물질 친화성이 우수함
  • 저농도, 낮은 온도에서도 세척 성능을 가지고 있음
  • 유연/무연 솔더의 다양한 플럭스 잔사들을 빠르게 제거 가능
  • 플립칩(Flip Chip)에 잔존하는 플럭스 잔사를 제거 함으로써 언더필 보이드 제로로 품질을 향상시킴
  • 확실한 플럭스 제거를 통해 파워 모듈의 와이어 본딩 품질이 향상됨
  • 일반적인 계면 활성제의 세척제보다 3 ~ 10배 긴 Bath수명을 가짐
  • 완만한 화학 구성 성분으로 세척 후 솔더조인트와 패드에 광택효과를 보임
  • 휘발성유기화합물(Volatile organic compound_VOC) 값이 매우 낮음

적용 분야:

  • PCB 제품 디플럭스
  • 민감한 금속 표면의 세척

오염물:

  • 플럭스 잔사

공정: