Hydron 기술

HYDRON 기술

수계 기반, 용액의 상분리 없는 세척 기술

HYDRON®은 제스트론에서 개발한 혁신적인 세척 기술입니다. HYDRON® 세척제는 수계기반으로 구성되어 있고 용액이 상분리가 되지 않으며 PCBA, 전력전자부품, 전자 패키지, 웨이퍼 및 스텐실 세척 등 광범위한 세척 제품을 커버합니다. HYDRON® 기술은 다양한 전자 기판 표면의 오염물질들을 완전히 제거할 수 있게 해줍니다.

HYDRON 제품의 주요 장점

상분리 없는 시스템

  • 용액의 상분리가 없어 세정 효과의 안정성이 뛰어남
  • 세척 공정 중 세정제를 혼합하거나 활성화할 필요없음
  • 세척력이 뛰어남
  • 오염물질이 일시적으로 형성되어 여과가 용이함
  • 세척제 수명이 길고 운용 비용이 적음

 

 

작업성이 좋음: 

  • 교반에 제약이 있는 장비에도 세척 및 린스 성능 우수
  • 세척 챔버와 Bath 탱크 사이에 일정농도유지
  • 세척제를 미리 혼합하지 않아도 되므로 Bath 샘플 채취가 용이함
  • 간단하게 세척제 투여(Dosing)가 가능

린스 특성이 좋음:

  • 잔여물 완전제거를 보장하는 뛰어난 린스 성능 
  • HYDRON 제품을 사용하여 PCB나 전력 전자부품의 플럭스 세척하고 딥 탱크(Dip tank)에 균일하게 헹굼처리된 기판의 잔유물 제로 
  • HYDRON 제품을 사용하여 스텐실을 세척하고, 린스 및 건조 이후 완벽하게 자국이 없는 스텐실

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