Hydron 기술

HYDRON 기술

수계 기반, 용액의 상분리 없는 세척 기술

HYDRON은 제스트론에서 개발한 혁신적인 세척 기술입니다. HYDRON 세척제는 수계기반으로 구성되어 있고 용액이 상분리가 되지 않으며 PCBA, 전력전자부품, 전자 패키지, 웨이퍼 및 스텐실 세척 등 광범위한 세척 제품을 커버합니다. HYDRON 기술은 다양한 전자 기판 표면의 오염물질들을 완전히 제거할 수 있게 해줍니다.

HYDRON 제품의 주요 장점

상분리 없는 시스템

  • 용액의 상분리가 없어 세정 효과의 안정성이 뛰어남
  • 세척 공정 중 세정제를 혼합하거나 활성화할 필요없음
  • 세척력이 뛰어남
  • 오염물질이 일시적으로 형성되어 여과가 용이함
  • 세척제 수명이 길고 운용 비용이 적음

 

 

작업성이 좋음: 

  • 교반에 제약이 있는 장비에도 세척 및 린스 성능 우수
  • 세척 챔버와 Bath 탱크 사이에 일정농도유지
  • 세척제를 미리 혼합하지 않아도 되므로 Bath 샘플 채취가 용이함
  • 간단하게 세척제 투여(Dosing)가 가능

린스 특성이 좋음:

  • 잔여물 완전제거를 보장하는 뛰어난 린스 성능 
  • HYDRON 제품을 사용하여 PCB나 전력 전자부품의 플럭스 세척하고 딥 탱크(Dip tank)에 균일하게 헹굼처리된 기판의 잔유물 제로 
  • HYDRON 제품을 사용하여 스텐실을 세척하고, 린스 및 건조 이후 완벽하게 자국이 없는 스텐실

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