VIGON® A 200

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水基 MPC® 清潔介質可去除電子組件、陶瓷混合體、電源模塊和引線框架中所有類型的助焊劑殘留物。它專門開髮用於高壓和中壓噴塗設備，例如在線或間歇式機器。

• 為後續工藝做好最佳準備
  該清潔劑可確保後續引線鍵合和塗層步驟的最高清潔度，適用於低間距。
• 無殘留清潔
  不含表面活性劑的配方和出色的漂洗性，不會在表面留下任何殘留物。
• 槽液壽命長，成本低
  易於過濾，因此可延長浴槽壽命並降低清潔劑成本。
• 無閃點, 無泡沫和低氣味
  無閃點，適用於所有不防爆的空氣噴塗設備。不起泡，即使在高壓應用中也是如此。不含鹵代化合物，氣味低。
• 濃度測量 - 手動和自動
  可以使用 ZESTRON® EYE 以數字方式實時自動測量清潔劑。ZESTRON® Bath Analyzer 10 可用作手動測量方法，用於快速輕鬆地檢查清潔劑濃度。
• 清洗劑再生
  當使用 VIGON® A 200 時，ZESTRON® Adsorber HM1 允許在清潔過程中吸附重金屬。