ZESTRON® CO 150

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溶劑型清洗劑專為超聲波浸槽工藝而開發。它可以不經稀釋用作預清潔劑或作為與 HFE 劑結合使用的共溶劑混合物。該產品特別適用於去除電子組件、電源模塊和基於引線框的分立元件的含鉛和無鉛 NoClean 焊膏中的助焊劑殘留物。

• 最佳清潔性能
  含鉛和無鉛焊膏的清潔效果非常好。
• 工藝穩定，濃度範圍寬
  確保穩定的清潔過程，因為它最大限度地減少了沸騰延遲並為過程控制打開了更寬的濃度窗口。
• 最大限度地減少 HFE 消耗
  穩定冷卻區並有助於最大限度地減少 HFE 消耗。
• 快乾、低離子污染值
  結合 HFE 工藝，該產品可實現完全無水清潔過程和快速無殘留乾燥。儘管採用無水工藝，仍可實現低離子污染值。
• 提高引線鍵合/成型質量
  該產品為電源模塊和基於引線框的分立元件的後續引線鍵合/成型工藝創造了最佳表面特性。