ZESTRON® CO 150
비수계 기반 디플럭스 공정을 위해 HFE 용액과 함께 사용되는 솔벤트 세척제
이점 ZESTRON® CO 150
초음파 침전형 세척공정에 사용하기 위해 개발된 솔벤트 세척제입니다. 희석없이 사용하거나, HFE-용액과 혼합하여 솔벤트 혼합물로 사용할 수 있습니다. 전자 조립 부품, 전력 전자모듈, 리드프레임기반 구성 부품의 잔존하는 유연, 무연 플럭스 및 No clean 솔더 페이스트 잔류물 세척을 위해 사용됩니다.
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최상의 세척력
유연 & 무연 솔더 페이스트에 매우 좋은 세척 결과를 얻을 수 있습니다. -
안정적인 세척공정, 넓은 농도 범위
비등 지연을 최소화와 공정 관리를 위한 넓은 농도 범위로 안정된 세척 공정을 보장 합니다. -
HFE 소모량 최소화
냉각 존을 안정화시키고 HFE의 소모량을 최소화합니다. -
빠른 건조, 이온 오염도 수치가 낮음
HFE 와 조합으로, 비수계 공정과 잔사 없이 빠른 건조가 가능하게 합니다. 비수계 공정임에도 불구하고 이온 오염도 수치가 낮습니다. -
와이어 본딩 및 몰딩 품질 향상
파워 모듈과 리드프레임 기반 부품의 후속 와이어 본딩 및 몰딩 공적을 위한 최적의 표면 특성을 만듭니다.
제품 기능
PCB
용제