전자 어셈블리의 청결도 분석
근거 있는 결과와 신뢰할 수 있는 해석 – ZESTRON 분석 서비스
ZESTRON 분석 서비스근거 있는 결과와 신뢰할 수 있는 해석
ZESTRON은 광학적, 화학적 및 물리적 분석 방법을 사용하여 세척 공정과 전자 어셈블리의 청결도를 평가합니다. 사진과 분석 결과가 포함된 기술 보고서를 통해 결과의 투명성과 추적성을 확보합니다. 또한 잔류 오염의 위험을 평가하고 적합한 개선 조치를 제안합니다.
한 곳에서 제공하는 청결도 분석마이크로미터 수준까지 정밀하게 분석합니다
생산 공정에서 발생하는 플럭스 잔류물과 입자 등의 오염은 전자 어셈블리의 기능과 신뢰성에 영향을 줄 수 있습니다. ZESTRON은 다양한 분석 방법을 활용하여 표면 청결도를 평가합니다. 숙련된 전문가가 측정 데이터를 기록하는 것에 그치지 않고 결과를 해석하여 문제 해결과 공정 최적화를 위한 적합한 조치를 도출합니다.
따라서 제스트론한눈에 보는 이점
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내부 및 외부 ISO 감사를 위한 표면 청결/품질 증명
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고객 및 공급업체의 보증 요청에 대한 보안
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통계적 공정 관리를 위해 검증 가능한 청결도
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전자 어셈블리의 코팅성 및 접착성 보장
분석 방법신뢰할 수 있는 결과를 위한 다양한 분석 기술
ZESTRON은 신뢰할 수 있는 결과를 위해 다양한 분석 방법과 장비를 활용합니다. 이온 오염도 측정과 이온 크로마토그래피를 통해 공정을 검증하고 위험을 평가할 수 있습니다. 또한 FTIR 분광법을 이용한 유기 잔류물 분석, VDA 19 및 ISO 16232에 따른 입자 추출과 분석, 광학 및 디지털 현미경 검사 등을 제공합니다.
제스트론 애널리틱스순도 분석에는 다음 방법을 사용할 수 있습니다.
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광학(80배) 및 디지털(최대 1000배) 현미경을 통한 육안 검사
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ZESTRON® Flux Test 부식 및 누설 전류 위험을 결정하기 위한 플럭스 잔류물 검출용
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ZESTRON® Resin Test 접착성 및 코팅성 결정을 위한 수지 잔류물 검출용
세척 배스 분석세척제의 사용 수명과 공정 효율성을 평가합니다
ZESTRON은 일관된 세척 품질과 안정적인 공정 신뢰성을 확보할 수 있도록 지원합니다. 고객이 제공한 세척 배스 샘플을 표준화된 절차에 따라 분석하고 개별 공정에 적합한 모니터링 기준을 정의합니다. 이를 통해 세척제의 적정 사용 기간을 평가하고 공정 비용을 줄일 수 있습니다.
세척 배스 분석제공 서비스
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표준화된 시험 절차를 이용한 최대 6개 샘플 분석
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모니터링 곡선과 관리 한계가 포함된 기술 보고서
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적용 분야에 맞는 세척 배스 모니터링 기준
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고형분 함량 측정
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pH 측정 (DIN 19268에 따름)
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전도도 측정 (DIN-EN 27888에 따름)
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농도 측정
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굴절률 측정 (DIN 51423에 따름)
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광학 검사
ZESTRON 제품을 사용하여 새로운 프로세스를 설치하는 경우 용액 분석 서비스도 보장합니다.
기술 아티클 및 자료분석 관련 기술 정보
ZESTRON Korea Naver 블로그에서 전자 어셈블리의 표면 청정도 평가와 분석 방법에 관한 기술 정보를 확인하세요.