ZESTRON의 세정 기술
전자제품 제조를 위한 혁신적인 세정 기술
FAST ® 기술ATRON® 제품
이를 통해 표면 습윤성이 크게 향상되어 납 함유 및 무연 노클린 솔더 페이스트의 잔여물을 효과적이고 신속하게 제거할 수 있습니다. 따라서 FAST® 기술은 특히 스프레이 공정에서 탁월한 세정 성능을 제공합니다.
특수한 배합의 FAST® 계면활성제 세정제는 기존 계면활성제에 비해 더 적은 활성 세정 성분으로도 많은 잔여물을 제거할 수 있습니다.
FAST ® 기술ATRON® 제품군의 이점
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기존 계면활성제 세정제보다 긴 세정 배스 사용 수명
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세정제 사용량 감소
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유지보수 및 전체 비용 절감
MPC ®기술VIGON® 제품
MPC®는 Micro Phase Cleaning®의 약자로, ZESTRON이 개발한 수계 세정 기술입니다. 이 기술은 국제적으로 특허 보호를 받고 있습니다. MPC® 기술은 기존 용제 및 계면활성제 기반 세정 기술의 장점을 결합하여 각각의 단점을 보완합니다.
MPC ®기술MPC® 기술의 주요 장점
높은 광대역 성능은 모든 MPC® 세정제의 특징입니다. 극성 및 비극성 성분의 조합을 통해 다양한 유기 및 무기 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있습니다.
MPC® 클리너의 추가 장점
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수성: 인화점 없음
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매우 낮은 VOC 값: 친환경적
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매우 우수한 여과성: 높은 경제성
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계면활성제 무함유: 표면에 계면활성제 잔류물 없음
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우수한 소재 호환성
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50mN/m 이상의 높은 표면 장력
수성 단상 세정 기술HYDRON® 제품
HYDRON®은 ZESTRON이 개발한 혁신적인 수성 단상 세정 기술입니다. HYDRON® 제품은 어셈블리, 파워 일렉트로닉스, 패키징 및 웨이퍼 분야에서 플럭스 제거 또는 스텐실 세정 등 다양한 용도에 권장됩니다. HYDRON® 기술을 통해 다양한 표면의 오염물을 효과적으로 제거할 수 있습니다.
HYDRON® 제품군한눈에 보는 이점
안정적인 단상 시스템
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안정적인 단상 에멀젼으로 상 분리 없음
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세정제를 활성화하기 위해 교반하거나 혼합이 필요하지 않음
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우수한 세정 성능
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오염 물질을 일시적으로 결합하여 필터링이 용이함
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긴 세 배스 사용 수명과 낮은 공정 비용
간편한 단상 공정
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혼합이 제한된 세정 시스템에서도 우수한 세정 및 헹굼 성능 제공
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세정 탱크와 세정 챔버 사이의 안정적인 농도 유지
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세척제를 미리 혼합할 필요가 없어 수조 샘플링이 간편함
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사전 혼합된 세척액을 간편하게 보충할 수 있
우수한 헹굼 성능
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우수한 헹굼 성능으로 잔여물을 효과적으로 제거
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어셈블리 및 전력 전자 장치의 플럭스 제거를 위한 침지 공정에서 HYDRON® 클리너 사용 시 잔류물 없이 균일한 헹굼 가능
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스텐실 세정 공정에서 HYDRON® 클리너 사용 시 스텐실에 플럭스 잔류물이 남지 않음
솔벤트 세정 기술ZESTRON® 제품군
ZESTRON의 솔벤트 세정제는 변성 알코올을 기반으로 한 최신 세정 기술을 적용한 제품군입니다.
IPA 또는 아세톤과 같은 일반 용제에 비해 우수한 세정 성능과 높은 오염물 수용 능력을 갖추고 있어 효율적인 공정 운영이 가능합니다.
ZESTRON® 제품군은 전자 어셈블리, 세라믹 기판, 파워 모듈 및 리드프레임의 플럭스 제거에 적합합니다. 또한 스텐실이나 스크린에 남아 있는 솔더 페이스트와 SMT 접착제 제거에도 사용할 수 있습니다.
ZESTRON® 세정제는 기본적으로 할로겐화 화합물을 함유하지 않으며, 141B나 트리클로로에틸렌과 같은 할로겐화 용제에 비해 환경 부담을 줄일 수 있습니다.
ZESTRON® 솔벤트 세정제는 침지 또는 반수성 세정 공정에 모두 적용할 수 있습니다. 또한 계면활성제를 함유하지 않아 헹굼이 용이합니다.
zestron 제품한눈에 보는 이점
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넓은 공정 범위로 다양한 전자부품 세정 공정에 적용 가능
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높은 수조 적재 용량으로 세정액의 사용 수명 연장
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할로겐 프리 유기 용매 기반으로 환경 친화적
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계면활성제를 함유하지 않아 헹굼이 용이
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높은 인화점으로 안전한 사용 가능