더 깨끗한 기술

FAST 기술 제품 그룹 ATRON

이로 인해 표면 습윤성이 크게 향상되어 납 함유 및 무연 노클린 솔더 페이스트의 잔여물을 효과적이고 신속하게 제거할 수 있습니다. 따라서 FAST® 기술은 특히 스프레이 공정에서 탁월한 세척 성능을 보장합니다.

특수한 배합으로 인해 FAST® 계면활성제 세정제는 기존 계면활성제에 비해 더 적은 활성 세정 성분으로 더 많은 잔여물을 제거할 수 있습니다.

MPC 기술 제품 그룹 VIGON

MPC®는 "마이크로 위상 세정"의 약자입니다. 이는 제스트론이 개발한 수성 세척 기술을 설명합니다. 이 기술의 측면은 국제적으로 특허로 보호되고 있습니다.

MPC® 기술의 특징은 기존 용매와 계면활성제 세정제의 단점을 수용하지 않고 장점을 결합한 것입니다.

전자제품 청소 및 전력 전자 분야용 클리너와 MRO 클리너는 MPC 기술을 기반으로 합니다.

수성 단상 세척 기술 제품 그룹 HYDRON

HYDRON®은 제스트론이 개발한 혁신적인 세척 기술이며 수성 단상 세척 매체를 의미합니다. HYDRON® 제품은 어셈블리, 파워 일렉트로닉스, 패키지 및 웨이퍼에서 플럭스 제거 또는 스텐실 세척과 같은 다양한 세척 용도에 권장됩니다. HYDRON® 기술을 사용하면 다양한 표면의 오염을 완벽하게 제거할 수 있습니다.

최신 용제 제품 그룹 ZESTRON

제스트론의 솔벤트 클리너는 변성 알코올을 기반으로 제조된 최신 시스템입니다.

IPA 또는 아세톤과 같은 단순 알코올에 비해 세척 성능이 크게 향상되고 수조 적재 용량이 눈에 띄게 높아 특히 경제적입니다. 또한 제스트론 클리너는 인화점이 훨씬 높아 기계 사용에 특히 안전합니다.

따라서 제스트론 제품군은 전자 어셈블리, 세라믹 기판, 파워 모듈 및 리드프레임에서 플럭스를 제거하는 데 이상적입니다. 이 클리너는 스텐실이나 스크린에서 솔더 페이스트와 SMT 접착제를 제거하는 데에도 사용할 수 있습니다.

기본적으로 모든 제스트론 세정제는 할로겐화 화합물을 함유하지 않아 141B나 트리클로로에틸렌과 같은 할로겐화 알코올에 비해 특히 환경 친화적인 제품입니다.

제스트론 용제는 완전 무수 또는 반수성 세척 공정에 모두 사용할 수 있습니다. 계면활성제가 전혀 함유되어 있지 않아 미디어를 매우 쉽게 헹굴 수 있습니다.