Reiniger Technologien

Innovative Reinigertechnologien für die Elektronikfertigung

FAST® Technologie Produktgruppe ATRON

Dies führt zu einer deutlich besseren Oberflächenbenetzung, die es dem Reiniger ermöglicht, Rückstände von bleihaltigen und bleifreien NoClean Lotpasten effektiv und schnell zu entfernen. Die FAST® Technologie garantiert somit eine exzellente Reinigungsleistung vor allem in Spritzprozessen.

Auf Grund der speziellen Formulierung benötigen FAST®-Tensidreiniger verglichen mit herkömmlichen Tensiden weniger aktive Reinigungskomponenten, um mehr Rückstände zu entfernen.

Abgebildet ist ein Molekül, das die FAST-Technologie der ATRON-Produktgruppe von ZESTRON repräsentiert, die innovative Reinigungslösungen für die Elektronikfertigung bietet. | © ZESTRON

ATRON® ProduktgruppeIhre Vorteile auf einem Blick

  • Längere Badstandzeiten als herkömmliche Tensidreiniger

  • Geringerer Reinigerverbrauch

  • Geringere Wartungs- und Gesamtkosten

Die MPC-Technologie der VIGON-Produktgruppe von ZESTRON bietet wasserbasierte Reinigungslösungen, die besonders umweltfreundlich und effizient sind. | © ZESTRON

MPC® Technologie Produktgruppe VIGON

MPC® steht für "Micro Phase Cleaning". Es beschreibt eine von ZESTRON entwickelte, wasserbasierende Reinigungstechnologie. Aspekte dieser Technologie sind international durch Patente geschützt.

Die Besonderheit der MPC® Technologie besteht darin, dass sie die Vorteile traditioneller Lösemittel und Tensidreiniger vereinigt, ohne jedoch deren Nachteile in Kauf zu nehmen.

Es basieren sowohl Reiniger für den Bereich Elektronikreinigung & Leistungselektronik, als auch MRO Reiniger auf der MPC Technologie.

Vigon® ProduktgruppeVorteile der MPC® Technologie - Elektronikreinigung

Die hohe Breitbandigkeit ist ein Merkmal aller MPC® Reinigungsmedien. Durch die Kombination von polaren und unpolaren Bestandteilen können unterschiedlichste organische und anorganische Verunreinigungen ab gereinigt werden.

Weitere Vorteile der MPC® Reiniger

  • Wasserbasierend: kein Flammpunkt

  • sehr niedrige VOC-Werte: besonders umweltverträglich

  • sehr gut filtrierbar: hohe Wirtschaftlichkeit

  • tensidfrei: keine Tensid-Rückstände auf den Oberflächen

  • gute Materialverträglichkeit

  • Erzielung sehr hoher Oberflächenspannungen von über 50 mN/m

Wasserbasierte, einphasige reinigungstechnologie Produktgruppe HYDRON

HYDRON® ist eine von ZESTRON entwickelte,  innovative Reinigungstechnologie und steht für wasserbasierende, einphasige Reinigungsmedien. HYDRON®  Produkte werden für unterschiedliche Reinigungsanwendungen empfohlen, wie z.B. für die Flussmittelentfernung von Baugruppen, Leistungselektronik, Packages und Wafern oder für die Schablonenreinigung. Die HYDRON® Technologie ermöglicht dabei die vollständige Entfernung jeglicher Verunreinigung von den diversen Oberflächen.

Das Bild zeigt die Funktion der HYDRON-Technologie von ZESTRON. Die HYDRON-Produktgruppe bietet wasserbasierte, einphasige Reinigungsmedien, die effizient und umweltfreundlich sind. Diese Produkte werden für Reinigungsanwendungen wie Flussmittelentfernung und Schablonenreinigung empfohlen. | © ZESTRON

HYDRON® ProduktgruppeIhre Vorteile auf einem Blick

Einphasige Formulierung

  • Stabile, einphasige Emulsion, keine Phasentrennung

  • Keine Agitation oder Durchmischung nötig um den Reiniger zu aktivieren

  • Sehr gute Reinigungsleistung

  • Bindet Verunreinigungen nur temporär, daher einfach zu filtrieren

  • Lange Badstandzeiten und niedrige Kosten


Einphasige Prozessierbarkeit

  • Sehr gute Reinigungs- und Spülleistung in Reinigungsanlagen mit begrenzter Durchmischung

  • Stabile Konzentrationen zwischen Reinigungstank und Reinigungskammer

  • Einfache Badprobenentnahme, da der Reiniger vorab nicht durchmischt werden muss

  • Simples Nachdosieren von Fertigmischung möglich


Sehr gute Spühlbarkeit

  • Vollständige Entfernung von Rückständen durch sehr gute Spülbarkeit

  • Rückstandsfreie, homogen gespülte Substrate beim Einsatz von HYDRON® Reinigern in Tauchprozessen zur Flussmittelentfernung von Baugruppen und Leistungselektronik

  • Vollständig schlierenfreie Schablonen beim Einsatz von HYDRON® Reinigern zur Reinigung und Spülung in Schablonenreinigungsprozessen

Das Bild zeigt einen Kanister von ZESTRON FA Lösemittelreiniger, der für die Flussmittelentfernung in halbwässrigen Prozessen verwendet wird. | © @Zestron

moderne lösungsmittel Produktgruppe ZESTRON

Die Lösemittelreiniger aus dem Hause Zestron sind moderne Systeme, die auf der Basis von modifizierten Alkoholen formuliert wurden.

Im Vergleich zu einfachen Alkoholen wie z.B. IPA oder Aceton besitzen sie eine deutlich verbesserte Reinigungsleistung und verfügen über eine merklich höhere Badbeladungskapazität, was sie besonders wirtschaftlich macht. Desweiteren weisen die ZESTRON Reiniger einen deutlich höheren Flammpunkt auf, was sie im maschinellen Einsatz besonders sicher macht.

Dadurch ist die ZESTRON Produktgruppe hervorragend für die Flussmittelentfernung von elektronischen Baugruppen, Keramiksubstraten, Powermodulen und Leadframes geeignet. Ebenso können die Reiniger auch für die Lotpasten und SMT Kleber Entfernung von Schablonen oder Siebe verwendet werden.

Grundsätzlich sind alle ZESTRON Reiniger frei von halogenierten Verbindungen, wodurch sie im Vergleich zu halogenierten Alkoholen, wie z.B. 141B oder Trichlorethylen besonders umweltverträglich sind.

Die ZESTRON Lösemittel sind entweder in komplett wasserfreien oder halbwässrigen Reinigungsprozessen einsetzbar. Dabei sind sie vollständig tensidfrei formuliert, wodurch die Medien sehr gut spülbar sind.

 

zestron ProduktgruppeIhre Vorteile auf einem Blick

  • Breites Prozessfenster, daher für unterschiedliche Reinigungsanwendungen in der Elektronik geeignet

  • Sehr hohe Badbeladungskapazität, ermöglicht dadurch sehr lange Badstandzeiten

  • Basierend auf halogenfreien, organischen Lösemitteln daher besonders umweltverträglich

  • Tensidfrei formuliert und daher sehr gut spülbar

  • Sicherer Einsatz durch hohen Flammpunkt gewährleistet

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