Technologia środków czyszczących
Innowacyjne technologie produktów czyszczących dla przemysłu elektronicznego
Technologia FAST® Grupa produktów ATRON
Prowadzi to do znacznie lepszego zwilżania powierzchni, co umożliwia skuteczne i szybkie usuwanie pozostałości ołowiowych i bezołowiowych past lutowniczych NoClean. Technologia FAST® gwarantuje zatem doskonałą wydajność czyszczenia, szczególnie w procesach natryskiwania.
Ze względu na specjalną formułę, środki czyszczące FAST® wymagają mniej aktywnych składników czyszczących w porównaniu do konwencjonalnych środków powierzchniowo czynnych w celu usunięcia większej ilości pozostałości.
Grupa produktów ATRON®Korzyściw Skrócie
-
Dłuższa żywotność kąpieli niż w przypadku konwencjonalnych środków powierzchniowo czynnych
-
Niższe zużycie środka czyszczącego
-
Niższe koszty konserwacji i koszty ogólne
Technologia MPC® Grupa produktów VIGON
MPC® to skrót od "Micro Phase Cleaning". Opisuje technologię czyszczenia na bazie wody opracowaną przez ZESTRON. Aspekty tej technologii są chronione międzynarodowymi patentami.
Szczególną cechą technologii MPC® jest to, że łączy ona zalety tradycyjnych rozpuszczalników i środków powierzchniowo czynnych, nie akceptując ich wad.
Środki czyszczące do czyszczenia elektroniki i energoelektroniki, jak również środki czyszczące MRO są oparte na technologii MPC.
Grupa produktów Vigon Zalety technologii MPC® - Czyszczenie elektroniki
Wysoka zdolność szerokopasmowa jest cechą charakterystyczną wszystkich mediów czyszczących MPC®. Dzięki połączeniu składników polarnych i niepolarnych możliwe jest usuwanie szerokiej gamy zanieczyszczeń organicznych i nieorganicznych.
Dalsze zalety środków czyszczących MPC
-
Na bazie wody: brak temperatury zapłonu
-
Bardzo niskie wartości LZO: szczególnie przyjazne dla środowiska
-
Bardzo dobra filtrowalność: wysoka wydajność ekonomiczna
-
Bez środków powierzchniowo czynnych: brak pozostałości środków powierzchniowo czynnych na powierzchniach
-
Dobra kompatybilność materiałowa
-
Osiąganie bardzo wysokich napięć powierzchniowych powyżej 50 mN/m
Jednofazowa technologia czyszczenia na bazie wody Grupa produktów HYDRON
HYDRON® to innowacyjna technologia czyszczenia opracowana przez firmę ZESTRON i oznacza jednofazowe środki czyszczące na bazie wody. Produkty HYDRON® są zalecane do różnych zastosowań czyszczących, takich jak usuwanie topnika z zespołów, elektroniki mocy, pakietów i wafli lub do czyszczenia szablonów. Technologia HYDRON® umożliwia całkowite usunięcie wszelkich zanieczyszczeń z różnych powierzchni.
Grupa produktów HYDRON®Zalety w skrócie
Formuła jednofazowa
-
Stabilna, jednofazowa emulsja, bez rozdzielania faz
-
Nie wymaga mieszania w celu aktywacji środka czyszczącego
-
Bardzo dobra wydajność czyszczenia
-
Wiąże zanieczyszczenia tylko tymczasowo, dzięki czemu jest łatwy do filtrowania
-
Długa żywotność kąpieli i niskie koszty
Możliwość przetwarzania jednofazowego
-
Bardzo dobra wydajność czyszczenia i płukania w systemach czyszczących z ograniczonym mieszaniem
-
Stabilne stężenia między zbiornikiem czyszczącym a komorą czyszczącą
-
Proste pobieranie próbek kąpieli, ponieważ detergent nie musi być wcześniej mieszany
-
Możliwość prostego dozowania gotowej mieszanki
Bardzo dobre właściwości płuczące
-
Całkowite usuwanie pozostałości dzięki bardzo dobrej spłukiwalności
-
Wolne od pozostałości, jednorodnie spłukane podłoża podczas stosowania środków czyszczących HYDRON® w procesach zanurzeniowych do usuwania topników z zespołów i energoelektroniki
-
Całkowicie wolne od smug szablony przy użyciu środków czyszczących HYDRON® do czyszczenia i płukania w procesach czyszczenia szablonów
nowoczesnych rozpuszczalników Grupa ZESTRON
Rozpuszczalnikowe środki czyszczące Zestron to nowoczesne systemy opracowane na bazie modyfikowanych alkoholi.
W porównaniu do prostych alkoholi, takich jak IPA lub aceton, mają one znacznie lepszą wydajność czyszczenia i zauważalnie większą pojemność kąpieli, co czyni je szczególnie ekonomicznymi. Co więcej, środki czyszczące ZESTRON mają znacznie wyższą temperaturę zapłonu, co czyni je szczególnie bezpiecznymi dla maszyn.
To sprawia, że grupa produktów ZESTRON jest idealna do usuwania topnika z podzespołów elektronicznych, podłoży ceramicznych, modułów zasilania i ramek wyprowadzeń. Środki czyszczące mogą być również stosowane do usuwania pasty lutowniczej i kleju SMT z szablonów lub ekranów.
Zasadniczo, wszystkie środki czyszczące ZESTRON są wolne od związków halogenowych, co czyni je szczególnie przyjaznymi dla środowiska w porównaniu do halogenowanych alkoholi, takich jak 141B lub trichloroetylen.
Rozpuszczalniki ZESTRON mogą być stosowane w całkowicie bezwodnych lub półwodnych procesach czyszczenia. Ich formuła jest całkowicie wolna od środków powierzchniowo czynnych, dzięki czemu media są bardzo łatwe do spłukania.
grupa produktów zestronZalety w skrócie
-
Szerokie okno procesowe, dzięki czemu nadaje się do różnych zastosowań czyszczenia w elektronice
-
Bardzo wysoka pojemność kąpieli, umożliwiająca bardzo długą żywotność kąpieli
-
Oparty na bezhalogenowych rozpuszczalnikach organicznych, dzięki czemu jest szczególnie przyjazny dla środowiska
-
Formuła bez środków powierzchniowo czynnych, dzięki czemu bardzo łatwo się spłukuje
-
Bezpieczne użytkowanie dzięki wysokiej temperaturze zapłonu