ATRON® AC 207

이점 ATRON® AC 207

ATRON® AC 207 은 전자 어셈블리를 위해 저농도조건에서도 잘 반응하도록 특수 개발된 FAST® 기술 기반 세척제입니다. 기존 계면활성제 기반의 세척 성능과 세척 수명을 개선하기 위해 개발된 제품으로 특히 민감한 금속 부품에도 적용 가능합니다. ATRON® AC 207 은 Inline 및 batch 세척 시스템 장비에서 중간 정도의 압력뿐만 아니라 높은 스프레이 압력 공정에도 사용 가능합니다.

• 민감한 금속 재료와의 우수한 재료 호환성
  세척제 제형이 순하고 적용 농도가 낮기 때문에 알루미늄, 황동, 니켈 등 민감한 금속과의 물질 호환성이 우수합니다. 또한 솔더 조인트와 패드가 밝고 깨끗하게 유지됩니다.
• 우수한 세척력
  낮은 농도와 온도에서도 뛰어난 세척 성능을 보입니다. 무연 및 다양한 플럭스 잔사들을 빠르게 제거합니다.
• 후속 공정을 위한 안정적인 플럭스 제거
  플립칩의 미세한 플럭스들까지 제거하여 보이드(void)없는 언더필을 보장합니다. 뛰어난 플럭스 제거로 전력 모듈의 와이어 본딩 품질을 향상시킵니다.
• 긴 세척액 수명,낮은 VOC 함량
  기존 계면활성제 기반 세척제보다 세척 수명이 길고 VOC 수준이 매우 낮습니다.
• 농도 측정 - 매뉴얼 & 자동화
  세척액은 ZESTRON® EYE를 사용하여 자동 및 수치적으로 실시간 농도 측정이 가능합니다. 세척액 농도를 빠르고 쉽게 확인할 수 있는 매뉴얼 측정 방법으로 ZESTRON Bath Analyzer 10을 사용할 수 있습니다.