VIGON® US

Votre bénéfice VIGON® US

Un nettoyant à base aqueuse spécialement développé pour une mise en œuvre dans des process en immersion avec ultrasons ou jets immergés, ainsi que des process par centrifugation. Basé sur la technologie MPC®, le VIGON® US élimine de manière fiable les résidus de flux des assemblages électroniques, des flip chip packages et des CMOS.

• Convient pour les low-standoffs
  Très bonne capillarité, convient donc pour le nettoyage sous des composants à faible stand-off.
• Rinçage sans résidus
  Rinçable sans résidus, permet donc une contamination ionique résiduelle très faible sur les substrats nettoyés.
• Longue durée de vie du bain, coûts réduits e pas de point d'éclair
  Le nettoyant se caractérise par une capacité de charge élevée, une très bonne filtrabilité et donc une longue durée de vie des bains et des coûts de nettoyage réduits. Il n'a pas de point d'éclair et peut donc être utilisé sans protection antidéflagrante.
• Préparation optimale pour les processus suivants
  Pour les puces retournées/CMOS, le nettoyant réduit le taux de vide lors de l'underfill et améliore la résolution de l'image en éliminant les Tacky Fluxes. En outre, pour les capteurs d'images CMOS, il améliore la résolution de l'image en éliminant les particules et réduit les défauts de pixels.
• Mesure de la concentration manuelle et automatique
  Peut être mesuré automatiquement et numériquement en temps réel avec le ZESTRON ® EYE. Le ZESTRON ® Bath Analyzer 10 est disponible comme méthode de mesure manuelle pour un contrôle rapide et simple de la concentration en détergent.
• Préparation du nettoyant
  Pendant l'utilisation du VIGON® US, l'adsorbant ZESTRON® HM1 peut éliminer les métaux lourds du bain de nettoyage.