HYDRON® SE 220

Votre bénéfice HYDRON® SE 220

Un nettoyant à base aqueuse, monophase et au pH neutre, spécialement développé pour les process en immersion. Il élimine parfaitement les résidus de flux des substrats les plus divers, tels que leadframes, composants discrets, modules de puissance et LED de puissance, ou encore les flip chips et CMOS, notamment après fixation de la puce.

• Une excellente efficacité dans les process de nettoyage en immersion
  Grâce à sa formulation monophasée, ce nettoyant offre une excellente processabilité dans les processus d'immersion. Il se rince très bien à l'eau déminéralisée et permet d'obtenir des substrats homogènes et sans résidus.
• Surfaces de substrat optimales pour les processus ultérieurs
  Il crée des surfaces de substrat activées et exemptes de taches pour les processus ultérieurs tels que le bonding par fil, le molding et le collage. De plus, le nettoyant maintient les surfaces de substrat activées pendant une période de stockage temporaire.
• Très bonne compatibilité des matériaux
  Le nettoyant au pH neutre présente une excellente compatibilité avec les matériaux, en particulier avec les Dies. Il n'y a pas d'attaque de la passivation.
• Pas de point éclair
  Dépourvu de point éclair et peut donc être utilisé dans toute machine de nettoyage en immersion. Faible signature odorante.
• Mesure de la concentration manuelle et automatique
  Peut être mesuré automatiquement et numériquement en temps réel avec le ZESTRON® EYE. Le ZESTRON® Bath Analyzer 20 est disponible comme méthode de mesure manuelle pour un contrôle rapide et simple de la concentration en détergent.