HYDRON® SE 220

pH-neutraler Reiniger zur Flussmittelentfernung im Bereich Semiconductor Elektronik

Kontakt

Stefan Kappes

Regional Sales Manager / Deutschland

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Ihre Vorteile HYDRON® SE 220

Wasserbasierender, einphasiger und pH-neutraler Reiniger, der speziell für den Einsatz in Tauchprozessen entwickelt wurde. Er entfernt zuverlässig Flussmittelrückstände von den unterschiedlichsten Teilen wie z.B. Leadframes, Discrete Devices, Power Modulen und Power LEDs, als auch von Flip Chips und CMOS, u.a. nach dem Die attach.

  • Hervorragende Prozessierbarkeit im Tauchprozess
    Aufgrund der einphasigen Formulierung bietet der Reiniger eine hervorragende Prozessierbarkeit in Tauchprozessen. Er ist sehr gut mit VE-Wasser spülbar und sorgt für rückstandfreie, homogene Substrate.
  • Optimale Substratoberflächen für nachfolgende Prozesse
    Er schafft fleckenfreie, aktivierte Substratoberflächen für nachfolgende Prozesse wie Drahtbonden, Molden und Verkleben. Zudem hält der Reiniger aktivierte Substratoberflächen über einen temporären Lagerzeitraum aufrecht.
  • Sehr gute Materialverträglichkeit
    Der pH-neutrale Reiniger weist eine exzellente Materialverträglichkeit auf, speziell mit Dies. Es kommt nicht zum Angriff der Passivierung.
  • Kein Flammpunkt
    Der geruchsarme Reiniger hat keinen Flammpunkt und ist damit in allen gängigen Tauchanlagen einsetzbar.
  • Konzentrationsmessung – manuell & automatisch
    Kann mit dem ZESTRON® EYE automatisch und digital in Echtzeit vermessen werden. Als manuelle Messmethode zur schnellen und einfachen Überprüfung der Reinigerkonzentration steht der ZESTRON® Bath Analyzer 20 zur Verfügung.

Produkteigenschaften

Entfernt alle Arten von Flussmittelrückständen von Leistungselektronik | © @ZESTRON

Leistungselektronik

Lösemittelreiniger zur Flussmittelentfernung in halbwässrigen Prozessen | © @ZESTRON

Packages

For sensitive surfaces

Für empfindliche Oberflächen

PH neutral | © @ZESTRON

PH neutral