VIGON® A 200

Votre bénéfice VIGON® A 200

Le nettoyant MPC® à base d'eau élimine de manière fiable les résidus de flux des assemblages électroniques, des substrats céramiques, des modules de puissance et des leadframes. Il a été spécialement conçu pour être utilisé dans les installations de pulvérisation par lots et en ligne, comme les machines de rinçage ou les installations en continu, mais il peut également être utilisé dans les processus d'immersion.

• Préparation optimale pour les processus suivants
  Le nettoyant permet d'obtenir une propreté de surface optimale pour le bonding ou le revêtement ultérieur des fils et convient pour les low-standoffs.
• Nettoyage sans résidus
  Formulé sans tensioactif et très facile à rincer, il ne laisse aucun résidu et permet une contamination ionique résiduelle très faible sur les substrats nettoyés.
• Longue durée de vie du bain, coûts réduits
  Très bonne filtrabilité et donc longue durée de vie des bains et faibles coûts de nettoyage.
• Pas de point d'éclair, pas de mousse & peu d'odeur
  Le nettoyant n'a pas de point d'éclair et peut donc être utilisé dans toutes les installations de nettoyage par aspersion courantes sans protection antidéflagrante. Il ne mousse pas, même en cas de pression de pulvérisation élevée. La formulation est en outre exempte de composés halogénés et peu odorante.
• Mesure de la concentration manuelle et automatique
  Peut être mesuré automatiquement et numériquement en temps réel avec le ZESTRON ® EYE. Le ZESTRON ® Bath Analyzer 10 est disponible comme méthode de mesure manuelle pour un contrôle rapide et simple de la concentration en détergent.
• Préparation du nettoyant
  Pendant l'utilisation du VIGON® A 200, l'adsorbant ZESTRON® HM1 peut éliminer les métaux lourds du bain de nettoyage.