技術コラム | 洗浄・分析の基礎から応用まで学ぶ
電子基板や半導体デバイスの製造では、フラックス残渣やコンタミネーションによる不具合を防ぐために適切な洗浄と
清浄度管理が重要です。
本ページでは、基板洗浄・フラックス洗浄・残渣分析など電子デバイス製造に関する技術情報をコラム形式で解説しています。
洗浄プロセスの最適化、不良対策、分析評価などの技術記事や事例をカテゴリ別にご覧いただけます。
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記事一覧
洗浄・電子材料
フラックス洗浄や電子材料に関する基礎知識、電子基板・半導体デバイスなどの実装工程における洗浄の必要性や技術動向について解説します。
不良対策・信頼性向上
マイグレーションや密着不良などのなどのトラブル事例を解説します。フラックス残渣やコンタミネーションが引き起こす不具合の原因と対策を紹介します。
洗浄プロセス
スプレー洗浄、超音波洗浄、噴流洗浄などの洗浄方式の特徴や選定ポイントを解説します。洗浄剤や装置との組み合わせを含め、最適なフラックス洗浄プロセスの構築方法を紹介します。
洗浄事例・共同研究
実装工程における洗浄課題について、ゼストロン洗浄剤における洗浄事例やはんだ・接合剤メーカー様との共同研究の結果をご紹介します。
洗浄剤・製品解説
フラックス洗浄に使用される洗浄剤の種類や技術、性能について解説します。洗浄剤の特長や洗浄メカニズム、フラックス残渣の除去性能などを技術データや評価結果をもとに紹介します。
洗浄から清浄度分析までワンストップで
洗浄を検討するにあたって、洗浄剤だけでは完結しません。
弊社は洗浄剤メーカーではありますが、ワークに適した洗浄方式を選択するこ と、そして洗浄後の分析も重要と考えています。
そのため、洗浄剤のご提案だけでなく、洗浄方式の選定、清浄度分析もサポー トさせていただきます。