メタルマスク・スクリーン版洗浄

プリント基板を製造する際、クリーム半田やボンド、厚膜ペーストは、メタルマスク、プラスチックマスクまたはスクリーンを使用して印刷されます。メタルマスク表面及び開口部のクリーム半田やボンドの残渣は、印刷ミスや硬化に繋がるため、メタルマスクやスクリーンの手拭き洗浄や自動洗浄プロセスが必須です。

・Pbフリー・共晶はんだ(無洗浄タイプ)の除去
・厚膜ペーストの除去
・ボンドの除去


自動メタルマスク洗浄

メタルマスク洗浄において、洗浄枚数や開口部の大きさにより最適な洗浄方法が変わります。

手拭き洗浄は、

  • 作業者によって精度が不安定
  • 開口部が狭いと洗浄できない

という懸念点があります。
そのため、IPC認定規格(IPC7526)に沿った洗浄機による洗浄をおすすめします。

メタルマスク洗浄機の種類

装置の種類は主に

  • 自動超音波
  • スプレー
  • 手動超音波

の3種類あり、洗浄枚数、開口部の大きさなどの条件によって選定するのがポイントです。
プラスチックマスク洗浄の場合は、標準的なメタルマスクと比較し、開口部の厚みやサイズの相関性に注意する必要があり、また洗浄に時間がかかる傾向があります。



手拭きメタルマスク洗浄

メタルマスクの自動洗浄プロセスに加え、ボンドやクリーム半田残渣は、手拭き洗浄で除去することが可能です。
この方法は、試作品などメタルマスクの洗浄頻度が低い場合の代替処理として行われます。
生産シフトが多い工場などは生産量も多くなり、高い洗浄性・再現性が求められる場合、自動洗浄プロセスを推奨いたします。

手拭き洗浄の際は、メタルマスク上に繊維くずや残渣を残さない材料の使用が重要です。また、力を加えすぎるとメタルマスクは簡単に傷んでしまうため、手拭き洗浄は慎重に行わなければなりません。


印刷ミスしたプリント基板(PCB)の廃棄を防ぐ印刷ミス基板洗浄

メタルマスクを洗浄すると印刷結果は改善されますが、生産工程において印刷ミスは発生します。
印刷ミス基板洗浄の際は、主に基板に誤って印刷されたまたは塗りつけられたクリーム半田を除去します。

片面がすでに半田付けされた高付加価値の両面基板の印刷ミスになると、欠陥品の基板を破棄せず、生産工程へ戻すことが出来れば、洗浄は非常に価値のあることです。


印刷機でのメタルマスク裏拭き洗浄

メタルマスクの自動洗浄に加えて、最適で優れた印刷品質を保つには、印刷機のメタルマスク裏拭き洗浄が重要です。

裏拭き洗浄で最も重要なのは、洗浄剤そのものです。優れた洗浄性、少ない消費量、クリーム半田との高い適合性が必要です。裏拭き洗浄中は、開口部を通る洗浄剤の流れとクリーム半田との相互影響は避けることができません。IPA(イソプロピルアルコール)のような洗浄剤は、クリーム半田の粘度に影響を与え、クリーム半田が蓄積してしまうなど、印刷品質に影響を与えてしまいます。また、IPAは揮発するため、消費量が非常に多くなってしまいます。

ゼストロンの洗浄剤は、きれいに拭き取ることができ、消費量が低く、クリーム半田の粘度に影響を与えないのが特徴です。ゼストロンは、印刷機内でのメタルマスクやナノコーティングメタルマスク用に開発された裏拭き用水系・溶剤系洗浄剤を提供しています。またゼストロンの洗浄剤、主要な印刷機メーカーやメタルマスクメーカーによって承認されています。


【動画で解説】洗浄方式別にメリット・デメリットを紹介
 

洗浄剤テクノロジーエレクトロニクス製造のための
革新的な技術

ゼストロンは、年間売上高の10%以上を研究開発に投資することで、洗浄技術、分析、洗浄液濃度測定・管理の分野で数多くの製品を開発してきました。洗浄剤テクノロジー技術には、MPC®、HYDRON®、FAST®技術、最新の溶剤などがあります。

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ゼストロンでは約40種類以上の洗浄剤をご用意しております。
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