ゼストロン洗浄剤テクノロジー

VIGON®エレクトロニクス用製品MPC®テクノロジー

MPC^®とは、マイクロフェーズクリーニングを意味し、ZESTRONが開発した水系洗浄剤テクノロジーです。

この技術は、あらゆる面で国際特許を取得しています。MPC^®テクノロジーのユニークな特徴は、欠点なく従来の有機溶剤と界面活性剤技術の利点を併せ持っているところです。

電子機器洗浄用クリーナー、パワーエレクトロニクス用クリーナー、MROクリーナーは、MPC技術をベースにしています。

HYDRON®製品グループHYDRON® テクノロジー

HYDRON^®はゼストロンが開発した革新的な洗浄技術です。
HYDRON^®洗浄剤は、水系かつ一相構造であり、プリント基板、パワーエレクトロニクス、高密度パッケージ、ウェハのフラックス洗浄や、メタルマスク洗浄などの幅広い洗浄対象に対応しています。 HYDRON^®テクノロジーにより、様々な電子基板表面からコンタミを完全に除去することができます。

Atron®製品グループFAST®テクノロジー

"速効性界面活性剤技術" （FAST^®）は、全く新しい世代の原料を使用した界面活性剤ベースの技術になります。

この洗浄技術は、より短く、より機敏な界面活性剤の構造が大きな役割を果たしており、被洗浄物の表面で従来の界面活性剤より速く移動することを可能にしています。

その結果、非常に高い濡れ性を得ることが出来、鉛フリーはんだ（無洗浄タイプ）や共晶はんだからすべての残渣を効率よく除去します。

従来の界面活性剤に比べて、FAST^®洗浄剤は、新しい成分の採用により、より少ない有効成分で表面から多くの残渣を除去します。

最新溶剤ZESTRON®テクノロジー

ゼストロンの溶剤系洗浄剤は、変性アルコール類をベースにした最新の洗浄剤です。

IPAやアセトンのようなアルコール類と比較して、洗浄性に優れています。洗浄剤は、コンタミ取り込み量が高く、洗浄コストを最小に抑えます。また、非常に高い引火点のため、自動洗浄において使用上の安全性を大幅に向上させます。

ZESTRON製品グループは、プリント基板、セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームからのフラックスを洗浄するのに理想的です。また、メタルマスク・スクリーン版からのフラックスを洗浄するのにも適しています。

さらに、溶剤または準水系の洗浄プロセスで使用することができ、複雑な構造の基板でも簡単に乾燥します。ハロゲン化合物（例えば141Bまたはトリクロロエチレンなど）を含まないため、環境に優しい製品となっております。