洗浄性と安全性の両立を実現した
フラックス洗浄剤

SMTエレクトロニクス、パワー半導体の洗浄剤と、
世界中で利用できる包括的な技術・分析サポート - それがゼストロンです

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ゼストロンにご相談下さいこんなお悩みありませんか?

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フラックス洗浄を始めたいが何から始めるべき?

無料洗浄テストを通して洗浄プロセス構築から分析までゼロからサポート

 

引火点がなく安全面・環境面に配慮した洗浄剤に切り替えたい

高い洗浄性と安全性を両立させた水系洗浄剤を開発


 

洗浄後フラックス残渣が
発生している

清浄度分析を行い残渣の発生原因を特定
 

 

洗浄から清浄度分析まで
ワンストップで

洗浄を検討するにあたって、洗浄剤だけでは完結しません。
弊社は洗浄剤メーカーではありますが、ワークに適した洗浄方式を選択すること、そして洗浄後の分析も重要と考えているため、洗浄剤のご提案だけでなく、洗浄方式の選定、清浄度分析もサポートさせていただきます。

テクニカルサポート

PCB、パワーモジュール、パッケージ、メタルマスク、治具向けの洗浄剤
スプレー・超音波・噴流など様々な装置を取り揃えています
”清浄度評価”から”洗浄液分析”まで– ワンストップショップ

ゼストロンの水系洗浄剤 高い洗浄性と安全性を両立した
水系洗浄剤とは?

ゼストロンノウハウ

高い洗浄性溶かすだけではなく
剥がす洗浄

ゼストロン洗浄剤には、溶解だけでなく剥離して洗浄する作用を持つ洗浄剤があるため洗浄性が高く、水溶性・脂溶性成分だけでなく難溶性物質にもアプローチできます。
また、成分の主体は水のため安全性も確保されています。さらに、溶解洗浄が主体でないため、洗浄剤中のコンタミを濾過することで、洗浄剤の再利用が可能であり、ランニングコスト面でも非常にメリットが大きいです。

ゼストロンの洗浄テクノロジー

高い安全性グローバルで使用可能な洗浄剤

ゼストロンは世界に8拠点あり、グローバル基準で洗浄剤を開発しています。

そのため、RoHSⅠ,Ⅱ,&Ⅲ,WEEE,GHS / CLPおよび REACHに準拠しており、SVHCまたはS.I.Nの物質は一切含まれていません 。

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ニュース

2024.09.13

焼結デバイスで求められる洗浄技術

焼結接合デバイスにおいて求められる洗浄方法や分析手法について解説した技術資料を追加しました。

詳細はこちら

2024.08.27

洗浄後の清浄度評価

フラックス残渣や焼結接合後の残渣の分析方法について解説しています。

詳細はこちら

2024.08.26

書籍「次世代パワーデバイスに向けた実装材料、技術と熱対策」 発刊のお知らせ

技術情報協会様発刊の技術書籍にて、弊社エンジニアが執筆いたしました。

詳細はこちら

2024.07.29

はんだ・微細接合部会 シンポジウム2024 発表資料

2024年7月23日に実施されたはんだ・微細接合部会 シンポジウムにおいて、ゼストロンジャパンの発表資料を公開しております。

詳細はこちら

2024.07.08

エレクトロニクス実装における技術進化と洗浄への影響

接合技術の進化と微細接合における洗浄について解説しています。

詳細はこちら

2024.06.06

電子基板におけるイオン残渣とその分析手法

電子基板上のイオン残渣の分析について解説した技術資料を追加しました。

詳細はこちら


無料の洗浄テストで
まずはお試しください

Step.1  ご希望に沿った装置(スプレー、超音波、噴流など)にて洗浄テストを実施

Step.2  分析センターにて清浄度を確認

Step.3  洗浄結果を記載したテクニカルレポートのご提供 

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ゼストロンジャパン株式会社

〒253-0111
神奈川県高座郡寒川町一之宮4-17-16
Tel: 0467-53-8658
infojapan@zestron.com

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