洗浄技術 × 分析力 - 電子デバイスの信頼性を高める

SMTエレクトロニクス・パワー半導体分野において、洗浄プロセス最適化と分析評価を包括的にサポート
グローバル対応可能な技術サポート体制で、品質と信頼性向上を支えます

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洗浄から清浄度分析までワンストップで

洗浄を検討するにあたって、洗浄剤だけでは完結しません。
弊社は洗浄剤メーカーではありますが、ワークに適した洗浄プロセスを選択すること、そして洗浄後の分析も重要と考えているため、
洗浄剤のご提案だけでなく、洗浄プロセスの選定、清浄度分析もサポートさせていただきます。

ゼストロンでは、半導体・エレクトロニクス業界向け洗浄剤や工程管理向けの製品を提供しております

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フラックス洗浄を始めたいが何から始めるべき?

フラックス洗浄の基礎を知る

引火点がなく安全面・環境面に配慮した洗浄剤に切り替えたい

高い安全性と洗浄性を両立させた水系洗浄剤を開発

洗浄後フラックス残渣が発生している

清浄度分析を行い残渣の発生原因を特定


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ゼストロンの水系洗浄剤 高い洗浄性と安全性を両立した
水系洗浄剤とは?

高い洗浄性溶かすだけではなく
剥がす洗浄

ゼストロン洗浄剤には、溶解だけでなく剥離して洗浄する作用を持つ洗浄剤があるため洗浄性が高く、水溶性・脂溶性成分だけでなく難溶性物質にもアプローチできます。
また、成分の主体は水のため安全性も確保されています。さらに、溶解洗浄が主体でないため、洗浄剤中のコンタミを濾過することで、洗浄剤の再利用が可能であり、ランニングコスト面でも非常にメリットが大きいです。

ゼストロンの洗浄テクノロジー

高い安全性グローバルで使用可能な洗浄剤

ゼストロンは世界に8拠点あり、グローバル基準で洗浄剤を開発しています。

そのため、RoHSⅠ,Ⅱ,&Ⅲ,WEEE,GHS / CLPおよび REACHに準拠しており、SVHCまたはS.I.Nの物質は一切含まれていません 。

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神奈川県にあるゼストロンジャパンのバーチャルツアーをご覧いただけます。


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ニュース

2026.02.19

フラックス残渣分析・不具合原因調査・清浄度評価|分析サービスのページを追加しました

ゼストロンの分析サービスについてご案内しています。

分析サービス

2026.02.18

洗浄ノウハウ|フラックスとは?役割や成分、種類、最新トレンドなどを解説のページを更新しました

フラックスの役割や成分、種類、最新トレンドなどを解説しています。

詳細はこちら

年に1度はんだメーカーである弘輝様との共同研究を実施しております。

2026.02.05

共同研究|洗浄・リンス条件が絶縁信頼性に与える影響 ~水溶性フラックスとロジン系フラックスの比較評価~ を追加しました

洗浄・リンス条件の違いが絶縁信頼性や表面状態に与える影響の評価、さらにフラックス種類による洗浄後の特性の違いも検証しています。

詳細はこちら

2026.01.29

動画コンテンツ | ネプコン2026 展示会報告

2026年1月21日~23日に開催された第40回インターネプコンジャパンに出展した様子の動画をアップロードしました。

展示会報告を見る

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2025.12.24

洗浄ノウハウ|イオンマイグレーションの原因と対策 基板の見えない不良を防ぐを追加しました

イオンマイグレーションの発生メカニズムから、洗浄による具体的な対策、評価・分析手法まで詳しく解説します。

詳細はこちら

分析センターでDCBを測定

2025.12.05

洗浄ノウハウ|半導体の樹脂封止、その前に。絶縁性と接合強度を高める表面設計とは?を追加しました

半導体樹脂封止の基本的な概念から、その品質を最大限に高めるための鍵となる表面処理の具体的なアプローチまでを詳しく解説します。

詳細はこちら


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Step.1  ご希望に沿った装置(スプレー、超音波、噴流など)にて洗浄テストを実施

Step.2  分析センターにて清浄度を確認

Step.3  洗浄結果を記載したテクニカルレポートのご提供 

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