洗浄技術 × 分析力 - 電子デバイスの信頼性を高める

SMT・パワー半導体向け はんだ・フラックス洗浄剤メーカーとして、
洗浄プロセス最適化から分析評価まで包括的にサポート
グローバル対応可能な技術サポート体制で、品質と信頼性向上を支えます

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洗浄から清浄度分析までワンストップで

洗浄を検討するにあたって、洗浄剤だけでは完結しません。
弊社は洗浄剤メーカーではありますが、ワークに適した洗浄プロセスを選択すること、そして洗浄後の分析も重要と考えているため、
洗浄剤のご提案だけでなく、洗浄プロセスの選定、清浄度分析もサポートさせていただきます。

ゼストロンでは、半導体・エレクトロニクス業界向け洗浄剤や工程管理向けの製品を提供しております

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プリント基板、パワーモジュール、パッケージ、メタルマスク、治具向けの洗浄剤

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フラックス洗浄を始めたいが何から始めるべき?

フラックス洗浄の基礎を知る

引火点がなく安全面・環境面に配慮した洗浄剤に切り替えたい

高い安全性と洗浄性を両立させた水系洗浄剤を開発

洗浄後フラックス残渣が発生している

清浄度分析を行い残渣の発生原因を特定


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ゼストロンの水系洗浄剤 高い洗浄性と安全性を両立した
水系洗浄剤とは?

高い洗浄性溶かすだけではなく
剥がす洗浄

ゼストロン洗浄剤には、溶解だけでなく剥離して洗浄する作用を持つ洗浄剤があるため洗浄性が高く、水溶性・脂溶性成分だけでなく難溶性物質にもアプローチできます。
また、成分の主体は水のため安全性も確保されています。さらに、溶解洗浄が主体でないため、洗浄剤中のコンタミを濾過することで、洗浄剤の再利用が可能であり、ランニングコスト面でも非常にメリットが大きいです。

ゼストロンの洗浄テクノロジー

高い安全性グローバルで使用可能な洗浄剤

ゼストロンは世界に9拠点あり、グローバル基準で洗浄剤を開発しています。

そのため、RoHSⅠ,Ⅱ,&Ⅲ,WEEE,GHS / CLPおよび REACHに準拠しており、SVHCまたはS.I.Nの物質は一切含まれていません 。

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ニュース

2026.07.14

セミナー資料|生成AI時代のエレクトロニクス実装の最前線 ~先端電子デバイス洗浄の課題と展望~を追加しました

はんだ・微細接合部会 シンポジウム2026にて、ゼストロンジャパンが発表した内容をまとめた資料です。

詳細はこちら

2026.07.13

製品情報|メタルマスク 裏拭き洗浄剤 VIGON® UC 160のページを追加しました

メタルマスクの裏拭き洗浄に最適なVIGON® UC 160の詳細情報(洗浄のメカニズムやIPAとの違いなど)を解説するページです。

詳しくはこちら

2026.06.24

動画コンテンツ|【基板不良】基板の腐食|ガルバニック腐食の原因と対策・分析方法の解説 を追加しました

本動画では、ガルバニック腐食の発生メカニズムや対策・分析方法について約3分の動画で解説しています。

詳細はこちら

基板洗浄

2026.06.17

技術コラム|水系洗浄剤とは?種類や特徴、水分量について解説のページを更新しました

水系洗浄剤の定義・種類・特徴から、洗浄メカニズム、水分量が洗浄工程に与える影響、乾燥工程のポイントまでを体系的に解説するページです。

詳細はこちら

2026.05.29

動画コンテンツ|【基板不良】イオンマイグレーション|リスク箇所と特定方法を解説 を追加しました

本動画では、量産後に突然発生する基板不良の原因として見落とされやすいイオンマイグレーションについて解説しています。

詳細はこちら

走査型電子顕微鏡エネルギー分散型X線分光法とは、加速された電子線を照射し試料表面の拡大観察を行うSEMと、その電子線照射によって発生する特性X線を検出し元素分析を行うEDSを組み合わせた装置です。

2026.07.15

技術コラム|SEM-EDS(SEM-EDX)分析とは?原理から元素分析、残渣解析の事例のページを追加しました

SEM-EDSの基本的な原理や分析からわかること、そして具体的な解析事例を紹介しています。

詳細はこちら

清浄度確認のための光学検査

2026.05.15

技術コラム|フラックス残渣とは?フラックス残渣の種類と分析方法のページを更新しました

フラックス残渣の基礎知識から、不具合事例、洗浄が求められるワーク、残渣の種類に応じた分析方法を解説しています。

詳細はこちら


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Step.1  ご希望に沿った装置(スプレー、超音波、噴流など)にて洗浄テストを実施

Step.2  分析センターにて清浄度を確認

Step.3  洗浄結果を記載したテクニカルレポートのご提供 

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