第38回インターネプコンジャパン出展のお知らせ

ゼストロンはインターネプコンジャパンに出展いたします。
ブースではフラックス洗浄の基礎知識から最新トピック(イオン残渣やはんだペーストメーカー様との共同研究など)まで幅広くご紹介します。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。


展示会概要

会期:2024年1月24日(水)~26日(金)10:00~17:00
会場:東京ビッグサイト 東展示場
小間位置:E1-20《東1ホール出入口から入場いただき、はんだブース内にございます。》

展示内容一例

  • 活性剤(イオン成分)の洗浄性 ~低スタンドオフ部の残留性検証~
  • ギ酸リフローでも洗浄は必要? ~洗浄効果の検証~
  • フラックス洗浄の基礎知識
  • 異物付着品質トラブルの原因究明(KITプロジェクト) など


活性剤(イオン成分)の洗浄性

2012抵抗下部の様子。各活性剤を既知量添加したサンプルを作成し、ICでイオン残量を評価。

※2012抵抗下部の様子

各活性剤を既知量添加したサンプルを作成し、未洗浄と洗浄後でのイオン残量を比較しました。


異物付着品質トラブルの原因究明

異物付着の品質トラブルがフラックス洗浄後に発生! 取引先から是正対応を求められるも、原因が分からない…

「フラックス洗浄後に品質トラブルが発生し、取引先から是正対応を求められるも、原因が分からない」というお悩みを持つお客様に対して、ゼストロンが行ったサポートを紹介します。

来場方法

事前の来場登録が必須となりますので、下記URLより来場登録いただき、ぜひ弊社ブースへお越しください。
来場登録はこちら:https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/register.html?code=0906516634184870-2AR

※来場に必要なバッジは、会期3週間前に事務局よりご案内があります。
※その他来場についてご不明点がある際は、事務局にお問い合わせください。
 来場に関するFAQ:https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/visit/faq.html

 



皆様のご来場お待ちしております

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ゼストロンジャパン株式会社

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神奈川県高座郡寒川町一之宮4-17-16
Tel: 0467-53-8658
infojapan@zestron.com

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