第38回インターネプコンジャパン出展のお知らせ
ゼストロンはインターネプコンジャパンに出展いたします。
ブースではフラックス洗浄の基礎知識から最新トピック(イオン残渣やはんだペーストメーカー様との共同研究など)まで幅広くご紹介します。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。
展示会概要
会期:2024年1月24日(水)~26日(金)10:00~17:00
会場:東京ビッグサイト 東展示場
小間位置:E1-20《東1ホール出入口から入場いただき、はんだブース内にございます。》
展示内容一例
- 活性剤(イオン成分)の洗浄性 ~低スタンドオフ部の残留性検証~
- ギ酸リフローでも洗浄は必要? ~洗浄効果の検証~
- フラックス洗浄の基礎知識
- 異物付着品質トラブルの原因究明(KITプロジェクト) など
活性剤(イオン成分)の洗浄性
※2012抵抗下部の様子
各活性剤を既知量添加したサンプルを作成し、未洗浄と洗浄後でのイオン残量を比較しました。
異物付着品質トラブルの原因究明
「フラックス洗浄後に品質トラブルが発生し、取引先から是正対応を求められるも、原因が分からない」というお悩みを持つお客様に対して、ゼストロンが行ったサポートを紹介します。
来場方法
事前の来場登録が必須となりますので、下記URLより来場登録いただき、ぜひ弊社ブースへお越しください。
来場登録はこちら:https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/register.html?code=0906516634184870-2AR
※来場に必要なバッジは、会期3週間前に事務局よりご案内があります。
※その他来場についてご不明点がある際は、事務局にお問い合わせください。
来場に関するFAQ:https://www.nepconjapan.jp/tokyo/ja-jp/visit/faq.html