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次世代洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

〜洗浄技術も進化が問われている〜

ゼストロンジャパン、新本社社屋を竣工、テクノロジーセンターとして活用

ゼストロンジャパン(株)(神奈川県高座郡寒川町一之宮4-17-16、Tel.0467-53-8658)は、神奈川県寒川町に新本社社屋を竣工し、5月18日に竣工式を実施した。今後、この施設に導入した装置を使ってデモンストレーションや評価試験などを実施する。

SMTエレクトロニクスや半導体分野の洗浄に加えて、世界中で技術・分析サポートサービスを提供しているのがゼストロンです。 プリント基板やパワーモジュール、半導体パッケージ、フリップチップ、メタルマスク、スクリーン版、パレット、リフロー炉、フローはんだ付け装置、スキージなどのフラックス残渣、樹脂、無洗浄はんだを除去するための様々な水系・準水系・溶剤系洗浄剤を提供しています。

洗浄工程を最適化するために、洗浄剤の再生や回収、モニタリング用にさまざまな製品を提供しています。

専門エンジニアチームは、様々なタイプの洗浄機(超音波、スプレー、浸漬、バッチ・インライン式など)、洗浄剤、洗浄条件、お客様のご予算などから総合的に判断し、費用対効果の高い最適な洗浄工程をご提案いたします。 テクニカルセンターでの洗浄テスト後、プリント基板や部品の清浄度は、IPC、MIL、J-STDなどの国際規格に沿って、目視検査やイオンコンタミ分析、イオンクロマトグラフィー、FT-IRなどの様々な分析手法を用いて分析します。