ZESTRON® CO 150

メリット ZESTRON® CO 150

ZESTRON® CO 150 は超音波浸漬槽工程用に開発された溶剤系洗浄剤です。希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせで前洗浄、もしくはコ・ソルベント混合液としてお使いいただけます。特に電子部品やディスクリート素子から共晶・鉛フリー無洗浄はんだペーストのフラックス残渣を除去するのに適しています。

• 最適な洗浄性能
  共晶・鉛フリーはんだペーストに対し良好な洗浄結果です。
• 安定したプロセス、広い濃度範囲
  工程管理における濃度管理範囲が広く設定できます。
• HFE止の最小化
  洗浄工程を安定させ、HFE消費量を最小化するのを助けます。
• 速乾性、低イオンコンタミ値
  HFEプロセスと組み合わせることで、完全に水を使わない洗浄工程と残留物のない高速乾燥が可能になります。水を使わないプロセスでありながら、低イオン汚染値を達成することができます。
• ワイヤーボンディング/モールドの品質向上
  パワーモジュール及びリードフレーム系ディスクリート素子のワイヤボンディング・モールディングの品質を向上させます。