Baugruppenreinigung Abschattung Batch Systeme

Abschattung in Batch Systemen


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[Christoph Karl]

Die Reinigung von elektronischen Baugruppen unter aufgelöteten Komponenten mit niedrigen Stand-off-Höhen von 40 μm ist eine große Herausforderung. Diese Studie präsentiert einen zerstörungsfreien Versuch mit transparenten Baugruppen, um Abschattungsphänomene in Einkammer-Spritzanlagen zu untersuchen und Empfehlungen für die Prozessentwicklung abzuleiten.

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Artikelnummer: DE-2403-02


Baugruppenreinigung

Abschattung in Batch-Systemen


Die Reinigung von elektronischen Baugruppen unter aufgelöteten Komponenten mit niedrigen Stand-off-Höhen von 40 μm ist eine herausfordernde Aufgabe, da das Ziel die vollständige Entfernung von Flussmittelresten ist. Bisher konnte eine unzureichende Reinigung nur durch Zerstörung der Baugruppe nachgewiesen werden. 

Diese Studie stellt einen zerstörungsfreien Versuch mit transparenten Baugruppen vor, um mögliche Abschattungsphänomene in Einkammer-Spritzanlagen (Spray-in-Air, SiA) messbar zu machen. 

Dabei wurden spezifische Unterschiede im Reinigungsverhalten verschiedener Anlagentypen festgestellt und Empfehlungen für die Prozessentwicklung abgeleitet.

Christoph Karl

Projektingeniuer Applied Research, ZESTRON Europe

Christoph Karl studierte Maschinenbau mit Spezialisierung Werkstofftechnik zum Abschluss Dipl.Ing. und arbeitete im Anschluss an der University of Birmingham sowie in der automobilen Zulieferindustrie. 

Bei Zestron ist der in der Applied Research Group aktiv und betreut Themen und Forschungsprojekte zur Messtechnik, Analytik, Anlagentechnik und Design of Experiment (DoE).

In der Applied Research Group entwickelt er in Zusammenarbeit mit F&E und Anwendungstechnik neue Verfahren, um Reinigung unter Komponenten zu analysieren und präsentiert Ergebnisse sehr zielgruppenorientiert.