Moderne und materialschonende Ultraschallreinigung


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[Christoph Karl; Kristyna Zakova]

Der Mythos, dass Ultraschall elektronische Bauteile schädigt, ist überholt. Dieses Whitepaper zeigt, wie moderne Ultraschall-Reinigungsprozesse durch richtige Frequenzwahl und standardisierte Testmethoden eine schonende Reinigung sicherstellen.

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Artikelnummer: DE-2406-05


Auf dem Elektronikmarkt besteht auch heute noch der Mythos bzw. die Befürchtung, dass Ultraschall generell Komponenten auf Baugruppen schädigt. Anlagenhersteller und Organisationen wie die IPC haben jedoch in den vergangenen Jahrzehnten Innovationen und Verbesserungen etabliert, um Schäden durch Ultraschall zu vermeiden. 

Dieses Whitepaper soll zeigen, wie moderne Ultraschall-Reinigungsprozesse arbeiten und wie Methoden zur Verhinderung von Schäden an Baugruppen effektiv umgesetzt werden. Die richtige Wahl der Frequenz, korrekte Einstellung der Reinigungsanlage und der Relativbewegung von Reinigungsgut sind dabei essenziell für schonende Reinigung. Standardisierte Testmethoden bei der Etablierung eines Prozesses können sichere Reinigung gewährleisten. 

Christoph Karl

Projektingenieur Applied Research, ZESTRON Europe

Christoph Karl studierte Maschinenbau mit Spezialisierung Werkstofftechnik zum Abschluss Dipl.Ing. und arbeitete im Anschluss an der University of Birmingham sowie in der automobilen Zulieferindustrie. 

Bei Zestron ist der in der Applied Research Group aktiv und betreut Themen und Forschungsprojekte zur Messtechnik, Analytik, Anlagentechnik und Design of Experiment (DoE).

In der Applied Research Group entwickelt er in Zusammenarbeit mit F&E und Anwendungstechnik neue Verfahren, um Reinigung unter Komponenten zu analysieren und präsentiert Ergebnisse sehr zielgruppenorientiert.

Kristyna Zakova

Projektingenieur Applied Research,

Kristyna Zakova studierte Maschinenbau mit Schwerpunkt Fertigungstechnik und Qualitätsmanagement an der Westböhmischen Universität Pilsen und arbeitete während des Studiums im Material Innovation Labor bei einem LED-Hersteller. Anschließend war sie im Qualitätsmanagement bei einem Anlagenhersteller für industrielle Reinigungsanlagen tätig, wo sie auch für Anlagentests und FACs zuständig war.

Bei Zestron ist sie im Bereich Applied Research tätig und arbeitet an Forschungsprojekten intern sowie in Kooperation mit externen Partnern. Ihr Fokus liegt auf Analytik, insbesondere Ionenchromatographie und technische Sauberkeit, sowie der Erforschung neuer analytischer Methoden und der Anforderungen an die Reinigung anspruchsvoller Oberflächen. Dank ihrer praktischen Erfahrungen aus Labor und Anlagenbau legt sie großen Wert auf die Umsetzbarkeit und den realen Nutzen der Forschungsergebnisse.