Christina Eifert

Technology Analyst

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+49 (0) 8453/41995310

Christina Eifert ist Diplom-Ingenieurin der Technischen Chemie und arbeitet seit einigen Jahren bei ZESTRON Europe. Seit 2020 ist sie als Technology Analyst Teil des Academy und Reliability & Surfaces Teams. In den Bereichen Risikobewertung sowie Oberflächen- und Schadensanalyse führt sie Technologie-Coachings durch.

Tagung Kupferoberflächen in der Leistungselektronik

Diese Tagung richtet sich an Fach und Führungskräfte aus Entwicklung, Aufbau und Verbindungstechnik, Prozessentwicklung, Qualitätssicherung und Materialtechnik, die Kupferoberflächen in der Leistungselektronik spezifizieren, bewerten oder für nachgelagerte Prozesse qualifizieren.

Im Mittelpunkt steht die Frage, wie Kupferoberflächen in realen Situationen aus Fertigung, Analyse und Belastung zuverlässig eingeordnet werden können. Die Teilnehmenden erhalten eine fachliche Orientierung zu Oberflächenmerkmalen, Analyseverfahren, Konditionierungsmöglichkeiten und deren Bedeutung für robuste Verbindungsprozesse und langfristige Stabilität.

Details

Auf einen Blick

Termine

Mi., 01.07.2026 , 13:00-17:00 Uhr

Do., 02.07.2026 , 09:00-12:45 Uhr

Ort

ZESTRON Europe, Baar-Ebenhausen

Gebühr

1.100 €

Preisangabe zzgl. ges. MwSt.

Darin enthalten: Pausengetränke, Mittagessen, ausführliche Schulungsunterlagen, Teilnahmezertifikat

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Beschreibung

Was Sie erwartet

Die Veranstaltung verbindet technische Grundlagen mit konkreten Fragestellungen aus der Leistungselektronik. Diskutiert werden Material und Oberflächeneigenschaften ebenso wie Anforderungen aus Aufbau und Verbindungstechnik, Feuchterobustheit, Oxidationsbewertung und Oberflächenkonditionierung.

Im Mittelpunkt stehen unter anderem folgende Themen:

Anforderungen und Auswirkungen auf Drahtbonden, Molden, Sintern
Kupferhalbzeuge für Leadframes und Leistungsmodule
Bestimmung von Oxidationszuständen mittels Sera-Verfahren
Oberflächen und ihr Einfluss auf Feuchterobustheit
Nasschemische oder physikalische Konditionierung
Funktionalisierung von Kupfer

Ziel ist es, den aktuellen Stand der Forschung transparent zusammenzufassen, bewährte Anwendungen zu identifizieren und zukunftsweisende Ansätze für die Gestaltung robuster, leistungsstarker Bauteile in der Leistungselektronik zu erkunden.

Im Vordergrund stehen der fachliche Austausch, die kritische Einordnung aktueller Erkenntnisse und konkrete Diskussionen mit Expertinnen und Experten aus Industrie, Forschung und Anwendung.

*Unvorhersehbare Programmänderungen bleiben vorbehalten.

Anmeldeschluss: 16. Juni 2026

Für eine bessere Planbarkeit wird eine frühzeitige Anmeldung empfohlen. Bei Fragen zur fachlichen Relevanz der Tagung oder zur passenden Teilnahme aus Ihrem Unternehmen unterstützt das Academy Team gerne.

Kurz Überblick

Anforderungen für verschiedene Folgeprozesse
Kupferhalbzeuge: Lösungen, Oberflächenspezifikationen, Erfahrungen
Vorstellung des SERA-Verfahrens
Oberflächen und ihr Einfluss auf Feuchterobustheit
Konditionierung und funktionale Modifikation von Kupferoberflächen

Zusätzlich werden konkrete Fragestellungen aus dem Tagesprogramm aufgegriffen:

Anforderungen an Kupferoberflächen für AVT Prozesse in der Leistungselektronik
Material und Oberflächeneigenschaften, Charakterisierung und Aufbautechnologien
Kupferhalbzeuge für Leadframes und Leistungsmodule mit Blick auf Standards, Spezifikationen, Grenzen und Erfahrungen
Bewertung von Oxidationszuständen und Einordnung des SERA Verfahrens
Einfluss von Oberflächen auf Feuchterobustheit, Adhäsionsstörungen, elektrochemische Migration und Kriechkorrosion
Vergleich nasschemische und physikalische Konditionierung
Funktionalisierung von Kupfer und Aluminium-Kupfer-Legierungen im Kontext von Grenzflächenchemie und Korrosionsanalytik

Sie erhalten praxisrelevantes Wissen von Experten auf dem Gebiet
Sie können Anforderungen an Kupferoberflächen für unterschiedliche Folgeprozesse besser einordnen
Sie gewinnen Orientierung bei der Bewertung von Oberflächenzuständen, Oxidschichten und Konditionierungsverfahren
Sie erhalten Impulse, um Oberflächenspezifikationen, Prozessfenster und Qualitätsbewertungen fundierter zu diskutieren
Sie lernen typische Einflussfaktoren auf Feuchterobustheit, Adhäsion und Langzeitstabilität kennen
Sie profitieren vom Austausch mit Referenten und Teilnehmenden aus Industrie, Forschung und Verbänden

Baar-Ebenhausen

Ihr Weg zu ZESTRON, Baar-Ebenhausen

Wie Sie am besten zu uns kommen, finden Sie in der angefügten Anfahrtsbeschreibung.
Besucherparkplätze stehen auf dem Firmencampus für Sie zur Verfügung.

Ihr Weg zu uns (PDF)

Oder nutzen Sie den Google Maps Links für eine schnelle Routenplanung: https://maps.app.goo.gl/5rpnzxjAAFTcgxEV6